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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第2284位 10件 (2012年:第1466位 17件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1187位 22件 (2012年:第1326位 20件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5188980 | 窒化ケイ素/酸化ケイ素除去速度比が高い研磨組成物及び研磨方法 | 2013年 4月24日 | |
特許 5188976 | 表面を平坦化するための組成物及び方法 | 2013年 4月24日 | |
特許 5180185 | 改良された平坦化のためのポリマー抑制剤 | 2013年 4月10日 | |
特許 5175270 | ポリエーテルアミンを含有する研磨組成物 | 2013年 4月 3日 | |
特許 5155858 | アルミニウム鏡のためのCMPの使用、及び太陽電池の製造 | 2013年 3月 6日 | |
特許 5149243 | 微小孔性研磨パッド | 2013年 2月20日 | |
特許 5144516 | 砥材を有しない研磨システム | 2013年 2月13日 |
22 件中 16-22 件を表示
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5188980 5188976 5180185 5175270 5155858 5149243 5144516
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
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10月23日(水) -
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10月23日(水) -
10月24日(木) -
10月24日(木) -
10月24日(木) - 東京 港
10月24日(木) -
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10月25日(金) -
10月25日(金) - 大阪 大阪市
10月25日(金) -
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10月29日(火) -
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10月30日(水) -
10月30日(水) -
10月29日(火) - 東京 品川区
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