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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第2284位 10件
（
2012年：第1466位 17件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1187位 22件
（
2012年：第1326位 20件）
（ランキング更新日：2024年10月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5378906 | アミン含有ポリマーを用いるＣＭＰシステムおよび方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5357021 | 酸化物の除去速度向上のためのガリウム及びクロムイオン | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5356832 | 相変化合金をＣＭＰするための方法 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5314042 | 銅を不動態化するＣＭＰ組成物及び方法 | 2013年10月16日 | |
| 特許 5314019 | ルテニウムＣＭＰ組成物及び方法 | 2013年10月16日 | |
| 特許 5313866 | 金属の除去速度を制御するためのハロゲン化物アニオン | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5313900 | 半導体材料のＣＭＰのための組成物と研磨方法 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5313885 | 窒化シリコン材料を研磨するための組成物および方法 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5307815 | 研磨パッド | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5264985 | 改善された酸化物除去速度のためのＣＭＰ組成物 | 2013年 8月14日 | |
| 特許 5264750 | 銅／ルテニウム／タンタル基板のＣＭＰ | 2013年 8月14日 | |
| 特許 5264493 | 銅／ルテニウム基材のＣＭＰ | 2013年 8月14日 | |
| 特許 5248861 | 微小孔性領域を有する磨きパッド | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5249317 | 溶解性ペルオキソメタレート錯体を含むＣＭＰ組成物及びその使用方法 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5221340 | ＣＭＰ用の多層研磨パッド材料 | 2013年 6月26日 |
22 件中 1-15 件を表示
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5378906 5357021 5356832 5314042 5314019 5313866 5313900 5313885 5307815 5264985 5264750 5264493 5248861 5249317 5221340
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 （周辺領域の商標・不正競争防止法を含む）に関するQ&A ～日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Ｑ＆Ａ形式で平易に解説～
10月22日(火) - 東京 港
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