ホーム > 特許ランキング > イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー > 2011年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第136位 326件 (2010年:第131位 386件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第171位 210件 (2010年:第227位 138件)
(ランキング更新日:2024年11月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2011-505466 | トリメチレンカーボネートおよびポリ(トリメチレンエーテル)グリコールを含むコポリマー | 2011年 2月24日 | |
特表 2011-505463 | 金属めっき物品用の部分芳香族ポリアミド組成物 | 2011年 2月24日 | |
特表 2011-505462 | 強化ポリアミド組成物 | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-39516 | 複合印刷版を製造する方法 | 2011年 2月24日 | |
特表 2011-504873 | 表面上で細菌胞子を除去する方法、およびこの方法に使用される殺胞子剤 | 2011年 2月17日 | |
特表 2011-504882 | モレキュラーシーブを用いたトランス−シスネペタラクトンのシス−トランスネペタラクトンへの転化方法 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-32482 | オレフィンの重合 | 2011年 2月17日 | |
特表 2011-505055 | 紫外線遮断誘電体層を含むカソード組立体 | 2011年 2月17日 | |
特表 2011-504370 | 過加水分解活性を有する酵素を用いた過酸の生産 | 2011年 2月10日 | |
特表 2011-504636 | 黒色バス電極用の導電性組成物およびプラズマディスプレイパネルの前面パネル | 2011年 2月10日 | |
特表 2011-504145 | 露光された熱転写集合体の分離方法 | 2011年 2月 3日 | |
特表 2011-504278 | 溶液処理された電子デバイス用のバックプレーン構造体 | 2011年 2月 3日 | |
特表 2011-503006 | 殺菌性複素環アミン | 2011年 1月27日 | |
特表 2011-503385 | 通気性のある耐水性衣類 | 2011年 1月27日 | |
特表 2011-503383 | 流体排出層を有する通気性衣類 | 2011年 1月27日 |
326 件中 256-270 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-505466 2011-505463 2011-505462 2011-39516 2011-504873 2011-504882 2011-32482 2011-505055 2011-504370 2011-504636 2011-504145 2011-504278 2011-503006 2011-503385 2011-503383
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーの知財の動向チェックに便利です。
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月30日(土) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ~ つながりを育む出会いの場(知財ネットワーク交流会)~
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
愛知県名古屋市中区栄3-2-3 名古屋日興證券ビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒166-0003 東京都杉並区高円寺南2-50-2 YSビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
特許業務法人 藤本パートナーズ 株式会社ネットス 株式会社パトラ
大阪オフィス:大阪市中央区南船場1-15-14 堺筋稲畑ビル2F 5F 東京オフィス:東京都千代田区平河町1-1-8 麹町市原ビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング