ホーム > 特許ランキング > 日立マクセル株式会社 > 2011年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(日立マクセル株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第192位 223件
(2010年:第149位 336件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第329位 104件
(2010年:第259位 117件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-28854 | 電池パック及び保護回路 | 2011年 2月10日 | |
再表 2009-44741 | 電池用セパレータおよび非水電解液電池 | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-20866 | 水素発生装置及び燃料電池システム | 2011年 2月 3日 | |
特開 2011-23074 | 磁気記録媒体 | 2011年 2月 3日 | |
特開 2011-23335 | 非水二次電池用電極および非水二次電池 | 2011年 2月 3日 | |
特開 2011-23239 | 非水電解質電池及び非水電解質電池モジュール | 2011年 2月 3日 | |
特開 2011-23186 | 電気化学素子用セパレータ、電気化学素子およびその製造方法 | 2011年 2月 3日 | |
特開 2011-16890 | エネルギー線硬化型インクジェットインク組成物 | 2011年 1月27日 | |
特開 2011-16889 | エネルギー線硬化型インクジェットインク組成物 | 2011年 1月27日 | |
特開 2011-18081 | レンズ装置 | 2011年 1月27日 | |
特開 2011-18590 | 絶縁層形成用スラリー、リチウムイオン二次電池用セパレータおよびその製造方法、並びにリチウムイオン二次電池 | 2011年 1月27日 | |
特開 2011-18589 | 絶縁層形成用スラリー、リチウムイオン二次電池用セパレータおよびその製造方法、並びにリチウムイオン二次電池 | 2011年 1月27日 | |
特開 2011-18588 | 絶縁層形成用スラリー、リチウムイオン二次電池用セパレータおよびその製造方法、並びにリチウムイオン二次電池 | 2011年 1月27日 | |
特開 2011-12224 | 顔料分散組成物の製造方法 | 2011年 1月20日 | |
特開 2011-12174 | エネルギー線硬化型インク組成物 | 2011年 1月20日 |
223 件中 196-210 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-28854 2009-44741 2011-20866 2011-23074 2011-23335 2011-23239 2011-23186 2011-16890 2011-16889 2011-18081 2011-18590 2011-18589 2011-18588 2011-12224 2011-12174
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日立マクセル株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
名古屋本部オフィス 〒450-0002 愛知県名古屋市中村区名駅3-13-24 第一はせ川ビル6F http://aigipat.com/ 岐阜オフィス 〒509-0124 岐阜県各務原市鵜沼山崎町3丁目146番地1 PACビル2階(旧横山ビル) http://gifu.aigipat.com/ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒951-8152 新潟県新潟市中央区信濃町21番7号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒060-0002 札幌市中央区北2条西3丁目1番地太陽生命札幌ビル7階 特許・実用新案 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング