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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第9位 3568件 (2010年:第9位 4235件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2位 4247件 (2010年:第2位 4710件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4826888 | 復調テーブル、復調装置および復調方法、プログラム、並びに記録媒体 | 2011年11月30日 | |
特許 4826671 | 情報管理方法および情報再生装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4826661 | コンテンツ削除装置、コンテンツ削除方法、コンテンツ削除プログラム及びコンテンツ管理システム | 2011年11月30日 | |
特許 4826354 | 制御回路及び光ディスク装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4826333 | 画像処理装置および方法、並びにプログラム | 2011年11月30日 | |
特許 4826587 | 薄膜半導体の製造方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4826233 | 光電変換素子パッケージ及び光電変換素子パッケージの製造方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4826167 | 半導体集積回路 | 2011年11月30日 | |
特許 4826128 | 二次電池用電解液および二次電池 | 2011年11月30日 | |
特許 4826127 | 固体撮像装置及びその製造方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4826111 | 固体撮像素子および固体撮像素子の製造方法および画像撮影装置 | 2011年11月30日 | |
特許 4826074 | 電界効果型トランジスタ | 2011年11月30日 | |
特許 4826067 | 固体撮像装置の製造方法および半導体装置の製造方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4826019 | 半導体レーザ素子の製造方法 | 2011年11月30日 | |
特許 4826002 | 電気化学デバイス及びその製造方法 | 2011年11月30日 |
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4826888 4826671 4826661 4826354 4826333 4826587 4826233 4826167 4826128 4826127 4826111 4826074 4826067 4826019 4826002
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