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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第9位 3568件 (2010年:第9位 4235件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2位 4247件 (2010年:第2位 4710件)
(ランキング更新日:2025年2月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 4761041 | シリコン膜の形成方法 | 2011年 8月31日 | |
特許 4761026 | 素子転写装置、素子の転写方法および表示装置の製造方法 | 2011年 8月31日 | |
特許 4760915 | 固体撮像素子 | 2011年 8月31日 | |
特許 4760816 | リチウムイオン二次電池用正極及びリチウムイオン二次電池 | 2011年 8月31日 | |
特許 4760606 | 記憶素子及び記憶装置 | 2011年 8月31日 | |
特許 4760473 | 二次電池 | 2011年 8月31日 | |
特許 4760414 | 半導体装置の製造方法 | 2011年 8月31日 | |
特許 4760361 | 半導体装置 | 2011年 8月31日 | |
特許 4760058 | 記憶素子及びメモリ | 2011年 8月31日 | |
特許 4760005 | 発光素子、発光素子の製造方法および表示装置 | 2011年 8月31日 | |
特許 4759900 | アルカリ亜鉛電池 | 2011年 8月31日 | |
特許 4759886 | 固体撮像装置 | 2011年 8月31日 | |
特許 4759821 | 半導体装置の製造方法 | 2011年 8月31日 | |
特許 4759819 | 半導体装置の製造方法 | 2011年 8月31日 | |
特許 4759783 | 二次電池の製造方法 | 2011年 8月31日 |
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4761041 4761026 4760915 4760816 4760606 4760473 4760414 4760361 4760058 4760005 4759900 4759886 4759821 4759819 4759783
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
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2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
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2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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