※ ログインすれば出願人(大日本印刷株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2014年 出願公開件数ランキング 第12位 2240件
(2013年:第16位 2256件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第20位 1543件
(2013年:第19位 1675件)
(ランキング更新日:2025年7月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2014-175434 | パターン形成方法及びナノインプリント用テンプレートの製造方法 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-175340 | インプリント方法、インプリント用のモールドおよびインプリント装置 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-172356 | 積層シートの製造方法 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-172329 | 筒状フィルムの切開装置 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-172316 | テンプレートの製造方法 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-172288 | ラミネートフィルム製造用原反フィルム、ラミネートフィルム製造用フィルム、及びラミネートフィルム製造用フィルムの製造方法 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-175609 | 導電性メッシュ、導電性メッシュシート、タッチパネル装置および画像表示装置 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-175187 | 導電パターン形成用基材、透明導電基材、導電パターン形成用基材の製造方法および透明導電基材の製造方法 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-174228 | 光学フィルム用転写体、光学フィルム、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-173101 | 積層体の製造方法 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-172291 | 仕上り線画像作成装置、仕上り線画像作成方法、仕上り線画像作成用プログラム | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-174294 | 光学素子 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-174226 | 回折格子画像データの作成方法 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-174970 | ハイトフィールドデータ生成装置、ハイトフィールドデータ生成方法、プログラム、及び記憶媒体 | 2014年 9月22日 | |
特開 2014-172507 | 台車 | 2014年 9月22日 |
2240 件中 601-615 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2014-175434 2014-175340 2014-172356 2014-172329 2014-172316 2014-172288 2014-175609 2014-175187 2014-174228 2014-173101 2014-172291 2014-174294 2014-174226 2014-174970 2014-172507
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。大日本印刷株式会社の知財の動向チェックに便利です。
7月22日(火) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月24日(木) -
7月24日(木) -
7月24日(木) -
7月25日(金) -
7月25日(金) -
7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
7月25日(金) -
7月25日(金) -
7月22日(火) -
7月28日(月) -
7月28日(月) -
7月29日(火) -
7月30日(水) -
7月30日(水) -
7月28日(月) -
〒460-0008 愛知県名古屋市中区栄一丁目23番29号 伏見ポイントビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 鑑定 コンサルティング
東京都練馬区豊玉北6-11-3 長田ビル3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 鑑定 コンサルティング
〒152-0034 東京都目黒区緑が丘一丁目16番7号 意匠 商標 外国商標 訴訟 コンサルティング