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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第514位 67件 (2013年:第700位 49件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1030位 27件 (2013年:第850位 36件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2014-512101 | 向上したプロセス制御のための品質測定値を提供するための方法およびシステム | 2014年 5月19日 | |
特表 2014-511504 | 偏光角度が調節可能な複合偏光子 | 2014年 5月15日 | |
特表 2014-511482 | レーザ液滴プラズマ照明器による光学結像システム | 2014年 5月15日 | |
特開 2014-90178 | 統合化されたプロセス条件検知用ウェハおよびデータ解析システム | 2014年 5月15日 | |
特開 2014-78032 | 深紫外スペクトル域拡張型カタジオプトリック結像系 | 2014年 5月 1日 | |
特表 2014-510277 | 独立的に調節可能な走査ピッチを有する表面走査検査システム | 2014年 4月24日 | |
特開 2014-74727 | 連続多波長表面スキャンを用いて表面レイヤ厚さを決定する方法および装置 | 2014年 4月24日 | |
特表 2014-509070 | 表面計測ツールにおける改善された局部的特徴定量化のための方法及びシステム | 2014年 4月10日 | |
特表 2014-507808 | 設計ベースデバイスリスク評価 | 2014年 3月27日 | |
特表 2014-507798 | EUV結像のための装置およびその装置を用いた方法 | 2014年 3月27日 | |
特表 2014-507781 | 半導体ウェーハのリアルタイム三次元SEM画像化およびビューイングのための装置および方法 | 2014年 3月27日 | |
特表 2014-507051 | 集束電子ビーム機器のスループットを向上させるための多極静電偏向器 | 2014年 3月20日 | |
特表 2014-505965 | 製造された基板上の点在したホットスポット領域を検査する方法および装置 | 2014年 3月 6日 | |
特開 2014-42069 | 散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法 | 2014年 3月 6日 | |
特表 2014-504803 | 進歩したウェーハ表面ナノトポグラフィのためのオブジェクトに基づく計測方法及びシステム | 2014年 2月24日 |
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2014-512101 2014-511504 2014-511482 2014-90178 2014-78032 2014-510277 2014-74727 2014-509070 2014-507808 2014-507798 2014-507781 2014-507051 2014-505965 2014-42069 2014-504803
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月24日(木) -
10月24日(木) -
10月24日(木) - 東京 港
10月24日(木) -
10月25日(金) - 東京 千代田区
10月25日(金) -
10月25日(金) - 大阪 大阪市
10月25日(金) -
10月29日(火) - 東京 品川区
10月29日(火) - 東京 港区
10月29日(火) -
10月30日(水) - 千葉 千葉市
10月30日(水) -
10月30日(水) -
10月29日(火) - 東京 品川区
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