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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第514位 67件 (2013年:第700位 49件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1030位 27件 (2013年:第850位 36件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5645410 | 瞳孔フィルターを用いたリソグラフィー画像再構成によるフォトマスクの検査方法及び装置 | 2014年12月24日 | |
特許 5646533 | 動的に駆動されるステージミラー及びチャック組立体を有するZステージを備えた基材支持装置 | 2014年12月24日 | |
特許 5627610 | 基板の形状または厚さの情報を測定するための方法および装置 | 2014年11月19日 | |
特許 5628656 | デザイナ・インテント・データを使用するウェハとレチクルの検査の方法およびシステム | 2014年11月19日 | |
特許 5619779 | 高温プラズマを持続させるための光ポンピング | 2014年11月 5日 | |
特許 5619776 | ウエハの検査のための1つまたは複数のパラメータの選択方法 | 2014年11月 5日 | |
特許 5616627 | ターゲットおよびサンプルの層の間のオーバレイ誤差を決定するための方法 | 2014年10月29日 | |
特許 5602771 | 欠陥分類における設計情報及び欠陥画像情報の使用 | 2014年10月 8日 | |
特許 5587934 | 散乱計測定の改良システムおよび応用 | 2014年 9月10日 | |
特許 5570530 | ウェハー上の欠陥検出 | 2014年 8月13日 | |
特許 5567527 | レティクルの設計パターンにおける欠陥を検出し、かつ(あるいは)ソートするためのコンピュータに実装された方法 | 2014年 8月 6日 | |
特許 5563803 | 回折構造体、広帯域、偏光、エリプソメトリおよび下地構造の測定 | 2014年 7月30日 | |
特許 5554563 | 次数選択されたオーバレイ測定 | 2014年 7月23日 | |
特許 5552459 | 光学検査中に光学収差を除去する装置および方法 | 2014年 7月16日 | |
特許 5538455 | 不良検出システムの改良 | 2014年 7月 2日 |
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5645410 5646533 5627610 5628656 5619779 5619776 5616627 5602771 5587934 5570530 5567527 5563803 5554563 5552459 5538455
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
10月22日(火) -
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