- 2024年12月17日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2024年12月17日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12004位 | 木下 伸浩 木下 伸浩 | 1 | 13109位 | 1 | 0(24706位) |
12004位 | 有限会社オーテック 有限会社オーテック | 1 | 13109位 | 1 | 0(24706位) |
12004位 | 有限会社アドバンス 有限会社アドバンス | 1 | 13109位 | 1 | 0(24706位) |
12004位 | インプレス グループ ベー.ヴェー. インプレス グループ ベー.ヴェー. | 1 | 13109位 | 1 | 1(9278位) |
12004位 | 井上 冨士夫 井上 冨士夫 | 1 | 13109位 | 1 | 0(24706位) |
12004位 | 有限会社スプリング 有限会社スプリング | 1 | 7810位 | 2 | 0(24706位) |
12004位 | エステヴェ キミカ, エス.エー. エステヴェ キミカ, エス.エー. | 1 | 4528位 | 4 | 0(24706位) |
12004位 | 株式会社キンセイ産業 株式会社キンセイ産業 | 1 | 5677位 | 3 | 1(9278位) |
12004位 | インデクスター アクチボラゲット インデクスター アクチボラゲット | 1 | 7810位 | 2 | 0(24706位) |
12004位 | AGDマテリアル株式会社 AGDマテリアル株式会社 | 1 | 13109位 | 1 | 0(24706位) |
12004位 | パリエンティ,ラウル パリエンティ,ラウル | 1 | 13109位 | 1 | 0(24706位) |
12004位 | 西田 隆之 西田 隆之 | 1 | 13109位 | 1 | 0(24706位) |
12004位 | 深田 晃弘 深田 晃弘 | 1 | 13109位 | 1 | 0(24706位) |
12004位 | アルテオン,マルセル アルテオン,マルセル | 1 | 13109位 | 1 | 0(24706位) |
12004位 | エスペートロワアッシュ エスペートロワアッシュ | 1 | 7810位 | 2 | 0(24706位) |
12004位 | ストーンリッジ・コントロール・デバイスィズ・インコーポレーテッド ストーンリッジ・コントロール・デバイスィズ・インコーポレーテッド | 1 | 13109位 | 1 | 0(24706位) |
12004位 | 有限会社アートスクリュー 有限会社アートスクリュー | 1 | 13109位 | 1 | 1(9278位) |
12004位 | 株式会社デンネツ 株式会社デンネツ | 1 | 13109位 | 1 | 2(5986位) |
12004位 | パシフィック ノースウエスト リサーチ インスティテュート パシフィック ノースウエスト リサーチ インスティテュート | 1 | 13109位 | 1 | 1(9278位) |
12004位 | ワトソン インダストリーズ,インコーポレイティド ワトソン インダストリーズ,インコーポレイティド | 1 | 13109位 | 1 | 0(24706位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2024年12月17日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
4519位 | 中部日本マルコ株式会社 | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | ソシエテ フランセーズ デュ ラディオテレフォンヌ | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | 株式会社リガルジョイント | 3 | - | 0 | 4(4080位) |
4519位 | 日本システム開発株式会社 | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
4519位 | 株式会社ライフ技術研究所 | 3 | 5419位 | 2 | 3(5141位) |
4519位 | デラボー エル.エル.シー. | 3 | - | 0 | 4(4080位) |
4519位 | ピップ株式会社 | 3 | - | 0 | 5(3481位) |
4519位 | 旭光精工株式会社 | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | ロバート ボッシュ コーポレイション | 3 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
4519位 | ステュディオ モデルナ エス.アー. | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | ドレクセル ユニバーシティー | 3 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
4519位 | ヘンケル・アーゲー・アンド・カンパニー・カーゲーアーアー | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | ペルストルプ スペシヤルテイ ケミカルズ アーベー | 3 | 5419位 | 2 | 0(33195位) |
4519位 | 株式会社プラズマイオンアシスト | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | 有限会社エスティニューテック研究会 | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | 太田 裕之 | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | ファーウェイ マリーン ネットワークス カンパニー リミテッド | 3 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
4519位 | フジマイクロ株式会社 | 3 | - | 0 | 2(7099位) |
4519位 | ナグラ フランス エスアーエス | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | プロチバ バイオセラピューティクス インコーポレイティッド | 3 | - | 0 | 4(4080位) |
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