- 2025年8月22日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12004位 | 木下 伸浩 木下 伸浩 | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
12004位 | 有限会社オーテック 有限会社オーテック | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
12004位 | 有限会社アドバンス 有限会社アドバンス | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
12004位 | インプレス グループ ベー.ヴェー. インプレス グループ ベー.ヴェー. | 1 | ![]() |
1 | 1(9278位) |
12004位 | 井上 冨士夫 井上 冨士夫 | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
12004位 | 有限会社スプリング 有限会社スプリング | 1 | ![]() |
2 | 0(24706位) |
12004位 | エステヴェ キミカ, エス.エー. エステヴェ キミカ, エス.エー. | 1 | ![]() |
4 | 0(24706位) |
12004位 | 株式会社キンセイ産業 株式会社キンセイ産業 | 1 | ![]() |
3 | 1(9278位) |
12004位 | インデクスター アクチボラゲット インデクスター アクチボラゲット | 1 | ![]() |
2 | 0(24706位) |
12004位 | AGDマテリアル株式会社 AGDマテリアル株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
12004位 | パリエンティ,ラウル パリエンティ,ラウル | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
12004位 | 西田 隆之 西田 隆之 | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
12004位 | 深田 晃弘 深田 晃弘 | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
12004位 | アルテオン,マルセル アルテオン,マルセル | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
12004位 | エスペートロワアッシュ エスペートロワアッシュ | 1 | ![]() |
2 | 0(24706位) |
12004位 | ストーンリッジ・コントロール・デバイスィズ・インコーポレーテッド ストーンリッジ・コントロール・デバイスィズ・インコーポレーテッド | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
12004位 | 有限会社アートスクリュー 有限会社アートスクリュー | 1 | ![]() |
1 | 1(9278位) |
12004位 | 株式会社デンネツ 株式会社デンネツ | 1 | ![]() |
1 | 2(5986位) |
12004位 | パシフィック ノースウエスト リサーチ インスティテュート パシフィック ノースウエスト リサーチ インスティテュート | 1 | ![]() |
1 | 1(9278位) |
12004位 | ワトソン インダストリーズ,インコーポレイティド ワトソン インダストリーズ,インコーポレイティド | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9278位 | 利保烙印標企業股▲分▼有限公司 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | イアン オード マイケル ヤコブズ | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | エージーシー・ケミカルズ・アメリカ、インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | バイオプ・バイオポリマー・テクノロジーズ・アクチエンゲゼルシャフト | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社 メイジフローシステム | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
9278位 | 有限会社ノア | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 岩田 崇 | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
9278位 | リフレキサイト・コーポレーション | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
9278位 | 川田 潤 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社 ニッセイ | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 大石 潔 | 1 | ![]() |
4 | 0(33195位) |
9278位 | ゲトラーク ゲトリーベ−ウント ツァーンラートファブリーク ヘルマン ハーゲンマイヤー ゲーエムベー… | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
9278位 | 尾高ゴム工業株式会社 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | ベイジン ディアンバ テクノロジー カンパニー リミテッド | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社日本ヴューテック | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 東海化成工業株式会社 | 1 | - | 0 | 1(12004位) |
9278位 | 大川 時夫 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | ベー プルス ファウ インドゥストリーテヒニーク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツン… | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | サントル・ナシオナル・デチューデ・スパシアル | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | ビショフ ウント クライン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー… | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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9月4日(木) -
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9月5日(金) -
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