- 2024年12月25日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2024年12月25日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
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12004位 | アトミクス株式会社 アトミクス株式会社 | 1 | - | 0 | 2(5986位) |
12004位 | エジソンハード株式会社 エジソンハード株式会社 | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | ユニオンマテリアル株式会社 ユニオンマテリアル株式会社 | 1 | - | 0 | 1(9278位) |
12004位 | 東洋シヤッター株式会社 東洋シヤッター株式会社 | 1 | - | 0 | 1(9278位) |
12004位 | ノリアック エイ/エス ノリアック エイ/エス | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | キス ネイル プロダクツ, インコーポレーテッド キス ネイル プロダクツ, インコーポレーテッド | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | ドーベン リミテッド ドーベン リミテッド | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | 株式会社ナカヤ 株式会社ナカヤ | 1 | - | 0 | 1(9278位) |
12004位 | ジャパンポリマーク株式会社 ジャパンポリマーク株式会社 | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | システミ・ソスペンシオーニ・ソシエタ・ペル・アチオニ システミ・ソスペンシオーニ・ソシエタ・ペル・アチオニ | 1 | - | 0 | 1(9278位) |
12004位 | 大東化学株式会社 大東化学株式会社 | 1 | - | 0 | 2(5986位) |
12004位 | 株式会社日本コンタクトレンズ 株式会社日本コンタクトレンズ | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | 株式会社ニーズプロダクト 株式会社ニーズプロダクト | 1 | - | 0 | 1(9278位) |
12004位 | ヴァレオ マトゥリオー ドゥ フリクション ヴァレオ マトゥリオー ドゥ フリクション | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | 吉田 康伸 吉田 康伸 | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | 株式会社セック 株式会社セック | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | 株式会社ジェイティービー 株式会社ジェイティービー | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | 有限会社フィデリックス 有限会社フィデリックス | 1 | - | 0 | 1(9278位) |
12004位 | 山田 秋江 山田 秋江 | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | 後藤 僚治 後藤 僚治 | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2024年12月25日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
12月25日(水) -
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