- 2024年11月22日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2024年11月22日 -
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2024年11月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
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4519位 | インフィネオン テクノロジーズ アクチェンゲゼルシャフト | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | トルーデル メディカル インターナショナル | 3 | 4188位 | 3 | 1(12004位) |
4519位 | 株式会社パークウェイ | 3 | 5419位 | 2 | 2(7099位) |
4519位 | 株式会社オフ・コーポレイション | 3 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
4519位 | エコ、レーン、リサーチ、アンド、デベロップメント、アクティーゼルスカブ | 3 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
4519位 | 山田化学工業株式会社 | 3 | 1872位 | 10 | 0(33195位) |
4519位 | ベーイーオー・メリュー | 3 | 1872位 | 10 | 1(12004位) |
4519位 | 韓国原子力研究院 | 3 | 5419位 | 2 | 1(12004位) |
4519位 | 技研金物株式会社 | 3 | 5419位 | 2 | 1(12004位) |
4519位 | アーノルド・ウント・リヒター・シネ・テヒニク・ゲーエムベーハー・ウント・コンパニ・ベトリーブス・カー… | 3 | 5419位 | 2 | 0(33195位) |
4519位 | イノジェネティックス・ナムローゼ・フェンノートシャップ | 3 | 4188位 | 3 | 0(33195位) |
4519位 | 株式会社日立プラズマパテントライセンシング | 3 | 1644位 | 12 | 0(33195位) |
4519位 | URO電子工業株式会社 | 3 | 4188位 | 3 | 1(12004位) |
4519位 | 株式会社ヤナギヤ | 3 | 8338位 | 1 | 3(5141位) |
4519位 | 株式会社産学連携機構九州 | 3 | 2174位 | 8 | 3(5141位) |
4519位 | 株式会社幸和製作所 | 3 | - | 0 | 2(7099位) |
4519位 | シー・アール・バード・インク | 3 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
4519位 | アベオ ファーマシューティカルズ, インコーポレイテッド | 3 | 8338位 | 1 | 2(7099位) |
4519位 | バイオメット ドイチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 3 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
4519位 | ノルブルック ラボラトリーズ リミテッド | 3 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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