- 2024年12月25日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2024年12月25日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
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12004位 | 株式会社箔一 株式会社箔一 | 1 | - | 1(9278位) | |
12004位 | ウニヴェルシテ カトリック ド ルヴァン ウニヴェルシテ カトリック ド ルヴァン | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社セブンコーポレーション 株式会社セブンコーポレーション | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社バックアップシステム 株式会社バックアップシステム | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 細野 雅子 細野 雅子 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 舌津 太 舌津 太 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 由井 義和 由井 義和 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 小林 功 小林 功 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | コリア ユニバーシティ リサーチ アンド ビジネス ファウンデーション コリア ユニバーシティ リサーチ アンド ビジネス ファウンデーション | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 日本製薬工業株式会社 日本製薬工業株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 日本素材株式会社 日本素材株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社工進 株式会社工進 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社青山 株式会社青山 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 岩崎 利宣 岩崎 利宣 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 森山 茂 森山 茂 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 中外商工株式会社 中外商工株式会社 | 1 | - | 1(9278位) | |
12004位 | 株式会社ワイビーテクノ 株式会社ワイビーテクノ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社ディスプレイテック21 株式会社ディスプレイテック21 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社ポラテクノ 株式会社ポラテクノ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 植木 正則 植木 正則 | 1 | - | 0(24706位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2024年12月25日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
12月25日(水) -
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