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2011年 特許ランキング

- 2025年2月19日 更新 -

2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。

特許出願件数ランキング

特許取得件数ランキング

2011年 出願公開分   - データ更新日:2025年2月19日 -

順位出願人件数前年順位前年件数2011年 特許取得件数
12004位 株式会社箔一 株式会社箔一 1 - 1(9278位)
12004位 ウニヴェルシテ カトリック ド ルヴァン ウニヴェルシテ カトリック ド ルヴァン 1 - 0(24706位)
12004位 株式会社セブンコーポレーション 株式会社セブンコーポレーション 1 - 0(24706位)
12004位 株式会社バックアップシステム 株式会社バックアップシステム 1 - 0(24706位)
12004位 細野 雅子 細野 雅子 1 - 0(24706位)
12004位 舌津 太 舌津 太 1 - 0(24706位)
12004位 由井 義和 由井 義和 1 - 0(24706位)
12004位 小林 功 小林 功 1 - 0(24706位)
12004位 コリア ユニバーシティ リサーチ アンド ビジネス ファウンデーション コリア ユニバーシティ リサーチ アンド ビジネス ファウンデーション 1 - 0(24706位)
12004位 日本製薬工業株式会社 日本製薬工業株式会社 1 - 0(24706位)
12004位 日本素材株式会社 日本素材株式会社 1 - 0(24706位)
12004位 株式会社工進 株式会社工進 1 - 0(24706位)
12004位 株式会社青山 株式会社青山 1 - 0(24706位)
12004位 岩崎 利宣 岩崎 利宣 1 - 0(24706位)
12004位 森山 茂 森山 茂 1 - 0(24706位)
12004位 中外商工株式会社 中外商工株式会社 1 - 1(9278位)
12004位 株式会社ワイビーテクノ 株式会社ワイビーテクノ 1 - 0(24706位)
12004位 株式会社ディスプレイテック21 株式会社ディスプレイテック21 1 - 0(24706位)
12004位 株式会社ポラテクノ 株式会社ポラテクノ 1 - 0(24706位)
12004位 植木 正則 植木 正則 1 - 0(24706位)

特許出願件数ランキング

特許取得件数ランキング

2011年 特許登録分   - データ更新日:2025年2月19日 -

順位出願人件数前年順位前年件数2011年 出願公開件数
9278位 株式会社センマ化学 1 - 0(33195位)
9278位 株式会社ステラ環境科学 1 - 0(33195位)
9278位 株式会社山寿セラミックス 1 - 0(33195位)
9278位 シャイト ウント バッハマン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 1 - 0(33195位)
9278位 偕成エンジニア株式会社 1 - 0(33195位)
9278位 ボワロー, シルヴァン 1 - 0(33195位)
9278位 株式会社ジーダット・イノベーション 1 - 0(33195位)
9278位 プロビジェント リミティド 1 - 1(12004位)
9278位 株式会社サンエー 1 - 2(7099位)
9278位 カン スン−イル 1 - 0(33195位)
9278位 ネクスタ株式会社 1 - 0(33195位)
9278位 バイセン株式会社 1 - 0(33195位)
9278位 タッチ イーマス リミテッド 1 - 0(33195位)
9278位 株式会社セルシグナルズ 1 - 0(33195位)
9278位 有限会社シーティータカハタ 1 - 0(33195位)
9278位 プロメタル アールツェーテー ゲーエムベーハー 1 - 0(33195位)
9278位 イエムカ、ジュリアーニ、マッキーネ、イタリア、ソシエタ、ペル、アチオニ 1 - 0(33195位)
9278位 株式会社四葉機械製作所 1 - 0(33195位)
9278位 ゴス スィステム グラフィーク ナント 1 - 0(33195位)
9278位 中沼アートスクリーン株式会社 1 - 0(33195位)
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。

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