2011年特許ランキング

- 2024年12月27日更新 -

2011年に発行された公報（公開特許公報，特許公報）に基づくランキングです。

特許出願件数ランキング

2011年出願公開分 - データ更新日：2024年12月27日 -

順位	出願人	件数	前年順位	2011年特許取得件数
12004位	山極恵理子山極恵理子	1	-	0（24706位）
12004位	河野保信河野保信	1	-	0（24706位）
12004位	シーエムワイテックカンパニーリミテッドシーエムワイテックカンパニーリミテッド	1	-	0（24706位）
12004位	キム，ヨンホキム，ヨンホ	1	-	0（24706位）
12004位	田村里子田村里子	1	-	0（24706位）
12004位	大井彩聖大井彩聖	1	-	0（24706位）
12004位	楊登任楊登任	1	-	0（24706位）
12004位	株式会社東光商事株式会社東光商事	1	-	0（24706位）
12004位	有限会社ワイケイプレシジョン有限会社ワイケイプレシジョン	1	-	0（24706位）
12004位	池野浩史池野浩史	1	-	0（24706位）
12004位	株式会社ｂｉｇｉｕ株式会社ｂｉｇｉｕ	1	-	0（24706位）
12004位	古川忠夫古川忠夫	1	-	0（24706位）
12004位	方文杰方文杰	1	-	0（24706位）
12004位	高橋光宏高橋光宏	1	-	0（24706位）
12004位	北川千代子北川千代子	1	-	0（24706位）
12004位	近藤エミ子近藤エミ子	1	-	0（24706位）
12004位	幾井孝幾井孝	1	-	0（24706位）
12004位	山本洋江山本洋江	1	-	0（24706位）
12004位	黒野正法黒野正法	1	-	0（24706位）
12004位	野口芳明野口芳明	1	-	0（24706位）

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2011年特許登録分 - データ更新日：2024年12月27日 -

順位	出願人	件数	前年順位	前年件数	2011年出願公開件数
4519位	株式会社栗原工業	3	8338位	1	1（12004位）
4519位	セフィード	3	3422位	4	0（33195位）
4519位	マウナケアテクノロジーズ	3	4188位	3	0（33195位）
4519位	アンジェスＭＧ株式会社	3	4188位	3	3（5141位）
4519位	三山工業株式会社	3	4188位	3	3（5141位）
4519位	ネクセオンリミテッド	3	8338位	1	0（33195位）
4519位	アルフレッサファーマ株式会社	3	3422位	4	3（5141位）
4519位	ルミゲンインク	3	8338位	1	1（12004位）
4519位	ホーメットリサーチコーポレーション	3	2941位	5	0（33195位）
4519位	理化工業株式会社	3	4188位	3	4（4080位）
4519位	株式会社ピコ・エイダ	3	-	0	0（33195位）
4519位	加藤俊徳	3	-	0	0（33195位）
4519位	サムテクノロジーズ	3	5419位	2	0（33195位）
4519位	ネルジェコ	3	-	0	0（33195位）
4519位	ユニバーシティ、オブ、サウサンプトン	3	8338位	1	2（7099位）
4519位	エスアイアイ・ネットワーク・システムズ株式会社	3	8338位	1	2（7099位）
4519位	富士高分子工業株式会社	3	3422位	4	1（12004位）
4519位	東西化学産業株式会社	3	4188位	3	3（5141位）
4519位	ジボーダンソシエテアノニム	3	5419位	2	0（33195位）
4519位	株式会社リード	3	8338位	1	6（3082位）

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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。