- 2025年2月4日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月4日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12004位 | 佐々木 久 佐々木 久 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 桑原 有司 桑原 有司 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社ダステック 株式会社ダステック | 1 | - | 2(5986位) | |
12004位 | ロバート・リュウ・ツーラン、ジュニア ロバート・リュウ・ツーラン、ジュニア | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社日立技術情報サービス 株式会社日立技術情報サービス | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 有限会社モブロン設計事務所 有限会社モブロン設計事務所 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 小檜山 勉 小檜山 勉 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | カリガン インターナショナル カンパニー カリガン インターナショナル カンパニー | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 菱興産業株式会社 菱興産業株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 日本メサライト工業株式会社 日本メサライト工業株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 有限会社 ヒットデザイン 有限会社 ヒットデザイン | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | アベリー、エヌ・カレブ アベリー、エヌ・カレブ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 大鉄工業株式会社 大鉄工業株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | デュプロシステム株式会社 デュプロシステム株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | リジュイヤオジツアングフェンヨウシアンゴンシ リジュイヤオジツアングフェンヨウシアンゴンシ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | バイオヴェイル ラボラトリーズ インコーポレイテッド バイオヴェイル ラボラトリーズ インコーポレイテッド | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 采▲金▼科技股▲分▼有限公司 采▲金▼科技股▲分▼有限公司 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | ファセト・イベリカ・ソシエダッド・アノニマ ファセト・イベリカ・ソシエダッド・アノニマ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社 大和テクノシステムズ 株式会社 大和テクノシステムズ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 森 俊彦 森 俊彦 | 1 | - | 0(24706位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月4日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9278位 | ソシエテ ナショナル デクスプロワタシオン アンドストリエル デ タバック エ アリュメット ソシエ… | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | 野中 昭良 | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | 株式会社三ツ和 | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | 土田 みどり | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | 佐々木 真弓 | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | ブラッコ スイス エス.エー. | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | ヴェクトラコー インコーポレイテッド | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | ブリストル−マイヤーズ スクイッブ カンパニー | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | バイオクイーン株式会社 | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | ピロゲン ソシエタ ペル アチオニ | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | マリア クレメンティーネ マルティン クロスターフラウ フェアトリーブスゲゼルシャフト ミット ベシ… | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | 株式会社エストロワ | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | ナノパス リミテッド | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | マービン・ビー・バケイナー | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | メファ・ゲーエムベーハー | 1 | - | 1(12004位) | |
9278位 | 灰田 宗孝 | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | シーディーエックス ラボラトリーズ インコーポレーテッド | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | カンター, スタントン, アール. | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | 有限会社クレイズ | 1 | - | 0(33195位) | |
9278位 | ホリングフォード・リミテッド | 1 | - | 0(33195位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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