特許ランキング特許庁発行の公報に基づくランキング

2011年特許ランキング

- 2025年8月20日更新 -

2011年に発行された公報（公開特許公報，特許公報）に基づくランキングです。

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特許出願件数ランキング

特許取得件数ランキング

2011年出願公開分 - データ更新日：2025年8月20日 -

順位	出願人	件数	前年順位	2011年特許取得件数
12004位	テクノロジー、ファウンデーション、エステーヴェーテクノロジー、ファウンデーション、エステーヴェー	1	-	0（24706位）
12004位	株式会社ナノプロセス株式会社ナノプロセス	1	-	0（24706位）
12004位	イエルク、ホーマンイエルク、ホーマン	1	-	0（24706位）
12004位	株式会社大光研磨株式会社大光研磨	1	-	0（24706位）
12004位	株式会社広宣株式会社広宣	1	-	0（24706位）
12004位	下田一喜下田一喜	1	-	0（24706位）
12004位	渡邊徹渡邊徹	1	-	0（24706位）
12004位	渋谷行子渋谷行子	1	-	0（24706位）
12004位	ネオハナテクカンパニーリミテッドネオハナテクカンパニーリミテッド	1	-	0（24706位）
12004位	エンティリサイクル，エルエルシーエンティリサイクル，エルエルシー	1	-	0（24706位）
12004位	永経堂印刷有限公司永経堂印刷有限公司	1	-	0（24706位）
12004位	有限会社らかん有限会社らかん	1	-	0（24706位）
12004位	株式会社トクニ工業株式会社トクニ工業	1	-	0（24706位）
12004位	高尾智志高尾智志	1	-	0（24706位）
12004位	伊江朝日郎伊江朝日郎	1	-	0（24706位）
12004位	株式会社アコースティックイノベーションズ株式会社アコースティックイノベーションズ	1	-	0（24706位）
12004位	政木和平政木和平	1	-	0（24706位）
12004位	新倉工業株式会社新倉工業株式会社	1	-	0（24706位）
12004位	ケイエスピーカンパニーリミテッドケイエスピーカンパニーリミテッド	1	-	0（24706位）
12004位	堀内洋英堀内洋英	1	-	0（24706位）

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特許出願件数ランキング

特許取得件数ランキング

2011年特許登録分 - データ更新日：2025年8月20日 -

順位	出願人	件数	前年順位	前年件数	2011年出願公開件数
4519位	株式会社栗原工業	3	8338位	1	1（12004位）
4519位	セフィード	3	3422位	4	0（33195位）
4519位	マウナケアテクノロジーズ	3	4188位	3	0（33195位）
4519位	アンジェスＭＧ株式会社	3	4188位	3	3（5141位）
4519位	三山工業株式会社	3	4188位	3	3（5141位）
4519位	ネクセオンリミテッド	3	8338位	1	0（33195位）
4519位	アルフレッサファーマ株式会社	3	3422位	4	3（5141位）
4519位	ルミゲンインク	3	8338位	1	1（12004位）
4519位	ホーメットリサーチコーポレーション	3	2941位	5	0（33195位）
4519位	理化工業株式会社	3	4188位	3	4（4080位）
4519位	株式会社ピコ・エイダ	3	-	0	0（33195位）
4519位	加藤俊徳	3	-	0	0（33195位）
4519位	サムテクノロジーズ	3	5419位	2	0（33195位）
4519位	ネルジェコ	3	-	0	0（33195位）
4519位	ユニバーシティ、オブ、サウサンプトン	3	8338位	1	2（7099位）
4519位	エスアイアイ・ネットワーク・システムズ株式会社	3	8338位	1	2（7099位）
4519位	富士高分子工業株式会社	3	3422位	4	1（12004位）
4519位	東西化学産業株式会社	3	4188位	3	3（5141位）
4519位	ジボーダンソシエテアノニム	3	5419位	2	0（33195位）
4519位	株式会社リード	3	8338位	1	6（3082位）

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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。

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