- 2024年12月27日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2024年12月27日 -
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2024年12月27日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
4519位 | バッテル メモリアル インスティチュート | 3 | 5419位 | 2 | 2(7099位) |
4519位 | 株式会社ケミカル山本 | 3 | - | 0 | 3(5141位) |
4519位 | モーディーン・マニュファクチャリング・カンパニー | 3 | 8338位 | 1 | 1(12004位) |
4519位 | クノール−ブレームス レール システムス (ユーケー) リミテッド | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
4519位 | 株式会社原子力安全システム研究所 | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
4519位 | 株式会社キクテック | 3 | 5419位 | 2 | 9(2279位) |
4519位 | 株式会社フロンテア | 3 | 4188位 | 3 | 3(5141位) |
4519位 | 新和産業株式会社 | 3 | 2941位 | 5 | 0(33195位) |
4519位 | バット ホールディング アーゲー | 3 | - | 0 | 6(3082位) |
4519位 | 株式会社ハタノ製作所 | 3 | 8338位 | 1 | 7(2749位) |
4519位 | 古河樹脂加工株式会社 | 3 | 3422位 | 4 | 3(5141位) |
4519位 | 株式会社 日本ハネック | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
4519位 | アドバンスド マスク テクノロジー センター ゲーエムベーハー ウント ツェーオー カーゲー | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | 瑞▲いー▼半導體股▲ふん▼有限公司 | 3 | 5419位 | 2 | 1(12004位) |
4519位 | ヒョスン・コーポレーション | 3 | 5419位 | 2 | 0(33195位) |
4519位 | ウイリアム エー クック オーストラリア ピィティワイ リミテッド | 3 | 5419位 | 2 | 1(12004位) |
4519位 | アボット ダイアベティス ケア インコーポレイテッド | 3 | 5419位 | 2 | 5(3481位) |
4519位 | マイデータ オートメーション アクチボラグ | 3 | 1872位 | 10 | 0(33195位) |
4519位 | 森精機興産株式会社 | 3 | 3422位 | 4 | 0(33195位) |
4519位 | 日立公共システムエンジニアリング株式会社 | 3 | 4188位 | 3 | 3(5141位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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