- 2025年6月6日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2025年6月6日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
7099位 | 株式会社フルヤ金属 株式会社フルヤ金属 | 2 | ![]() |
4 | 14(1627位) |
7099位 | アイクストロン、アーゲー アイクストロン、アーゲー | 2 | ![]() |
6 | 13(1707位) |
7099位 | サン−ゴバン テクニカル ファブリックス ヨーロッパ サン−ゴバン テクニカル ファブリックス ヨーロッパ | 2 | ![]() |
2 | 3(4519位) |
7099位 | 株式会社ナガエ 株式会社ナガエ | 2 | ![]() |
1 | 7(2601位) |
7099位 | 扶桑電機工業株式会社 扶桑電機工業株式会社 | 2 | ![]() |
1 | 3(4519位) |
7099位 | 漢拏空調株式会社 漢拏空調株式会社 | 2 | ![]() |
2 | 2(5986位) |
7099位 | 株式会社荻原製作所 株式会社荻原製作所 | 2 | ![]() |
2 | 2(5986位) |
7099位 | 株式会社TAIYO 株式会社TAIYO | 2 | ![]() |
10 | 11(1927位) |
7099位 | 三建設備工業株式会社 三建設備工業株式会社 | 2 | ![]() |
3 | 10(2071位) |
7099位 | 日軽熱交株式会社 日軽熱交株式会社 | 2 | ![]() |
4 | 1(9278位) |
7099位 | ライカ ジオシステムズ アクチェンゲゼルシャフト ライカ ジオシステムズ アクチェンゲゼルシャフト | 2 | ![]() |
9 | 8(2389位) |
7099位 | ヤマハファインテック株式会社 ヤマハファインテック株式会社 | 2 | ![]() |
7 | 11(1927位) |
7099位 | 株式会社ケット科学研究所 株式会社ケット科学研究所 | 2 | ![]() |
3 | 5(3248位) |
7099位 | デンソー インターナショナル アメリカ インコーポレーテッド デンソー インターナショナル アメリカ インコーポレーテッド | 2 | ![]() |
2 | 6(2899位) |
7099位 | 岩瀬 幾郎 岩瀬 幾郎 | 2 | - | 0 | 1(9278位) |
7099位 | ぴあ株式会社 ぴあ株式会社 | 2 | ![]() |
1 | 4(3746位) |
7099位 | 株式会社 液晶先端技術開発センター 株式会社 液晶先端技術開発センター | 2 | ![]() |
10 | 15(1552位) |
7099位 | キネティック リミテッド キネティック リミテッド | 2 | ![]() |
4 | 11(1927位) |
7099位 | シュネーデル、エレクトリック、インダストリーズ、エスアーエス シュネーデル、エレクトリック、インダストリーズ、エスアーエス | 2 | ![]() |
3 | 12(1799位) |
7099位 | パワージェニックス システムズ, インコーポレーテッド パワージェニックス システムズ, インコーポレーテッド | 2 | ![]() |
3 | 3(4519位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2025年6月6日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
4519位 | 中部日本マルコ株式会社 | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | ソシエテ フランセーズ デュ ラディオテレフォンヌ | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | 株式会社リガルジョイント | 3 | - | 0 | 4(4080位) |
4519位 | 日本システム開発株式会社 | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
4519位 | 株式会社ライフ技術研究所 | 3 | ![]() |
2 | 3(5141位) |
4519位 | デラボー エル.エル.シー. | 3 | - | 0 | 4(4080位) |
4519位 | ピップ株式会社 | 3 | - | 0 | 5(3481位) |
4519位 | 旭光精工株式会社 | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | ロバート ボッシュ コーポレイション | 3 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
4519位 | ステュディオ モデルナ エス.アー. | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | ドレクセル ユニバーシティー | 3 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
4519位 | ヘンケル・アーゲー・アンド・カンパニー・カーゲーアーアー | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | ペルストルプ スペシヤルテイ ケミカルズ アーベー | 3 | ![]() |
2 | 0(33195位) |
4519位 | 株式会社プラズマイオンアシスト | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | 有限会社エスティニューテック研究会 | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | 太田 裕之 | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | ファーウェイ マリーン ネットワークス カンパニー リミテッド | 3 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
4519位 | フジマイクロ株式会社 | 3 | - | 0 | 2(7099位) |
4519位 | ナグラ フランス エスアーエス | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | プロチバ バイオセラピューティクス インコーポレイティッド | 3 | - | 0 | 4(4080位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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