2011年特許ランキング

- 2025年5月30日更新 -

2011年に発行された公報（公開特許公報，特許公報）に基づくランキングです。

特許出願件数ランキング

2011年出願公開分 - データ更新日：2025年5月30日 -

順位	出願人	件数	前年順位	前年件数	2011年特許取得件数
7099位	白井富二男白井富二男	2	-	0	1（9278位）
7099位	株式会社ナノテック株式会社ナノテック	2	-	0	2（5986位）
7099位	財団法人野田産業科学研究所財団法人野田産業科学研究所	2	-	0	2（5986位）
7099位	西▲崎▼ 傳生西▲崎▼ 傳生	2	-	0	4（3746位）
7099位	株式会社日本アレフ株式会社日本アレフ	2	13109位	1	2（5986位）
7099位	國立台灣大學國立台灣大學	2	-	0	0（24706位）
7099位	荒城慶作荒城慶作	2	13109位	1	0（24706位）
7099位	久松右治久松右治	2	-	0	2（5986位）
7099位	及川正喜及川正喜	2	-	0	0（24706位）
7099位	ＷＨＡ株式会社ＷＨＡ株式会社	2	-	0	0（24706位）
7099位	佐々木商工株式会社佐々木商工株式会社	2	-	0	3（4519位）
7099位	金有相金有相	2	-	0	0（24706位）
7099位	千代田商工株式会社千代田商工株式会社	2	-	0	0（24706位）
7099位	株式会社キュビズム株式会社キュビズム	2	-	0	0（24706位）
7099位	鈴鹿エンジ有限会社鈴鹿エンジ有限会社	2	-	0	0（24706位）
7099位	有限会社アリューズ有限会社アリューズ	2	7810位	2	0（24706位）
7099位	初田拡撒機株式会社初田拡撒機株式会社	2	-	0	1（9278位）
7099位	下村工業株式会社下村工業株式会社	2	-	0	0（24706位）
7099位	小林正一小林正一	2	13109位	1	1（9278位）
7099位	東海林博光東海林博光	2	-	0	0（24706位）

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2011年特許登録分 - データ更新日：2025年5月30日 -

順位	出願人	件数	前年順位	前年件数	2011年出願公開件数
261位	住友大阪セメント株式会社	133	299位	102	173（245位）
261位	株式会社エクォス・リサーチ	133	306位	100	191（223位）
261位	日亜化学工業株式会社	133	283位	109	111（357位）
261位	株式会社ノーリツ	133	424位	68	137（293位）
261位	インターデイジタルテクノロジーコーポレーション	133	324位	96	76（475位）
261位	ウシオ電機株式会社	133	276位	111	206（208位）
267位	株式会社コナミデジタルエンタテインメント	131	214位	146	266（167位）
267位	ソニーエリクソンモバイルコミュニケーションズ，エービー	131	481位	58	96（397位）
267位	グローリー株式会社	131	289位	107	196（218位）
270位	株式会社ミツトヨ	130	330位	94	147（276位）
271位	株式会社フジシールインターナショナル	129	315位	98	82（454位）
271位	日油株式会社	129	297位	103	84（447位）
273位	株式会社アマダ	128	182位	180	68（527位）
274位	ライオン株式会社	127	285位	108	276（159位）
274位	文化シヤッター株式会社	127	249位	121	75（482位）
274位	株式会社ＬＩＸＩＬ	127	-		133（300位）
277位	メルクパテントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング	126	306位	100	129（305位）
277位	日立工機株式会社	126	250位	120	255（170位）
277位	三菱鉛筆株式会社	126	273位	112	83（452位）
280位	コニカミノルタエムジー株式会社	125	304位	101	268（166位）

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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。

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