- 2025年8月8日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
7099位 | 株式会社リ・サイエンスシステム研究所 株式会社リ・サイエンスシステム研究所 | 2 | - | 0 | 0(24706位) |
7099位 | 林 正雄 林 正雄 | 2 | - | 0 | 0(24706位) |
7099位 | サンエポック株式会社 サンエポック株式会社 | 2 | - | 0 | 0(24706位) |
7099位 | ハイメックス株式会社 ハイメックス株式会社 | 2 | ![]() |
3 | 0(24706位) |
7099位 | 株式会社エクセル電子 株式会社エクセル電子 | 2 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
7099位 | 有限会社ソング 有限会社ソング | 2 | - | 0 | 0(24706位) |
7099位 | エム・イー・エス・アフティ株式会社 エム・イー・エス・アフティ株式会社 | 2 | - | 0 | 0(24706位) |
7099位 | 株式会社井之商 株式会社井之商 | 2 | ![]() |
1 | 1(9278位) |
7099位 | 株式会社パル 株式会社パル | 2 | ![]() |
3 | 0(24706位) |
7099位 | 朝田 哲也 朝田 哲也 | 2 | - | 0 | 0(24706位) |
7099位 | 高橋 保江 高橋 保江 | 2 | - | 0 | 1(9278位) |
7099位 | ストリックス リミテッド ストリックス リミテッド | 2 | - | 0 | 1(9278位) |
7099位 | メリット・メディカル・システムズ・インコーポレーテッド メリット・メディカル・システムズ・インコーポレーテッド | 2 | - | 0 | 1(9278位) |
7099位 | ストライカー・トラウマ・ソシエテ・アノニム ストライカー・トラウマ・ソシエテ・アノニム | 2 | - | 0 | 1(9278位) |
7099位 | 安 泰昌 安 泰昌 | 2 | - | 0 | 2(5986位) |
7099位 | 佐藤農機鋳造 株式会社 佐藤農機鋳造 株式会社 | 2 | ![]() |
1 | 1(9278位) |
7099位 | 株式会社メタコ 株式会社メタコ | 2 | ![]() |
2 | 6(2899位) |
7099位 | エイチアールエル ラボラトリーズ,エルエルシー エイチアールエル ラボラトリーズ,エルエルシー | 2 | ![]() |
3 | 5(3248位) |
7099位 | 株式会社CSL 株式会社CSL | 2 | - | 0 | 0(24706位) |
7099位 | タマ化学工業株式会社 タマ化学工業株式会社 | 2 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
660位 | グラクソ グループ リミテッド | 45 | ![]() |
50 | 75(482位) |
660位 | 大塚製薬株式会社 | 45 | ![]() |
28 | 40(776位) |
660位 | エーザイ・アール・アンド・ディー・マネジメント株式会社 | 45 | ![]() |
49 | 45(718位) |
660位 | 株式会社高尾 | 45 | ![]() |
49 | 85(442位) |
660位 | エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド | 45 | ![]() |
22 | 41(767位) |
660位 | エヌエイチエヌ コーポレーション | 45 | ![]() |
17 | 24(1094位) |
660位 | 独立行政法人 国立印刷局 | 45 | ![]() |
46 | 64(557位) |
660位 | 富士機工株式会社 | 45 | ![]() |
11 | 26(1042位) |
660位 | 倉敷化工株式会社 | 45 | ![]() |
29 | 29(971位) |
660位 | ヘッドウェイテクノロジーズ インコーポレイテッド | 45 | ![]() |
20 | 49(676位) |
660位 | 新日軽株式会社 | 45 | ![]() |
62 | 17(1434位) |
660位 | エスアーペー アーゲー | 45 | ![]() |
29 | 5(3481位) |
673位 | ロレアル | 44 | ![]() |
56 | 68(527位) |
673位 | アストラゼネカ・アクチエボラーグ | 44 | ![]() |
42 | 50(664位) |
673位 | アバゴ・テクノロジーズ・ジェネラル・アイピー(シンガポール)プライベート・リミテッド | 44 | ![]() |
16 | 3(5141位) |
673位 | 国立大学法人九州大学 | 44 | ![]() |
29 | 77(473位) |
673位 | ニスカ株式会社 | 44 | ![]() |
32 | 84(447位) |
673位 | レイセオン カンパニー | 44 | ![]() |
53 | 44(728位) |
673位 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 44 | ![]() |
57 | 25(1072位) |
673位 | 日本電産サーボ株式会社 | 44 | ![]() |
27 | 11(1974位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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【大阪会場】 設計図面に隠れている発明を見出す発明発掘(図面発掘)~「知財ポートフォリオ・マネジメント」を高めるために必須のテクニックを ケーススタディを通じて解説 ~
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