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2011年 特許ランキング

- 2024年12月3日 更新 -

2011年に発行された公報（公開特許公報，特許公報）に基づくランキングです。

特許出願件数ランキング

特許取得件数ランキング

2011年 出願公開分   - データ更新日：2024年12月3日 -

順位出願人件数前年順位前年件数2011年 特許取得件数
7099位 河政工業株式会社 河政工業株式会社 2 - 0 2（5986位）
7099位 西村陶業株式会社 西村陶業株式会社 2 - 0 0（24706位）
7099位 ヒビノ株式会社 ヒビノ株式会社 2 - 0 0（24706位）
7099位 株式会社宇賀神製作所 株式会社宇賀神製作所 2 - 0 0（24706位）
7099位 シネーベルゲール ホルディング アーゲー シネーベルゲール ホルディング アーゲー 2 - 0 1（9278位）
7099位 コディ−エス カンパニー リミテッド コディ−エス カンパニー リミテッド 2 - 0 0（24706位）
7099位 有限会社岩田電機通信 有限会社岩田電機通信 2 - 0 0（24706位）
7099位 Ｔ＆Ａ株式会社 Ｔ＆Ａ株式会社 2 - 0 0（24706位）
7099位 ミヨシ電子株式会社 ミヨシ電子株式会社 2 - 0 0（24706位）
7099位 シンギュレックス・インコーポレイテッド シンギュレックス・インコーポレイテッド 2 - 0 0（24706位）
7099位 アドヴァンスト ハイドロカーボン マッピング エーエス アドヴァンスト ハイドロカーボン マッピング エーエス 2 特許件数下降 13109位 1 0（24706位）
7099位 宇威光電股▲ふん▼有限公司 宇威光電股▲ふん▼有限公司 2 - 0 0（24706位）
7099位 ローレンス リバモア ナショナル セキュリティー， エルエルシー ローレンス リバモア ナショナル セキュリティー， エルエルシー 2 - 0 0（24706位）
7099位 オフソニックス・インコーポレーテッド オフソニックス・インコーポレーテッド 2 - 0 6（2899位）
7099位 東亜電子工業株式会社 東亜電子工業株式会社 2 - 0 0（24706位）
7099位 デジタルコースト株式会社 デジタルコースト株式会社 2 - 0 0（24706位）
7099位 インディリンクス カンパニー．， リミテッド． インディリンクス カンパニー．， リミテッド． 2 - 0 0（24706位）
7099位 江中 八洲彦 江中 八洲彦 2 - 0 0（24706位）
7099位 東日京三電線株式会社 東日京三電線株式会社 2 - 0 1（9278位）
7099位 オーパック株式会社 オーパック株式会社 2 - 0 0（24706位）
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特許出願件数ランキング

特許取得件数ランキング

2011年 特許登録分   - データ更新日：2024年12月3日 -

順位出願人件数前年順位前年件数2011年 出願公開件数
9278位 １ｓｔホールディングス株式会社 1 - 2（7099位）
9278位 株式会社アイティアイディコンサルティング 1 - 2（7099位）
9278位 ビルディング マテリアルズ インヴェストメント コーポレイション 1 - 1（12004位）
9278位 パーク ジョンユン 1 - 0（33195位）
9278位 問山 昭 1 - 0（33195位）
9278位 是澤 米吉 1 - 0（33195位）
9278位 ジェイヴィエム カンパニー リミテッド 1 - 0（33195位）
9278位 アンザ セラピューティクス，インコーポレイテッド 1 - 1（12004位）
9278位 新矢 浩一 1 - 0（33195位）
9278位 クラミック エレクトロニクス ゲーエムベーハー 1 - 0（33195位）
9278位 株式会社メデル 1 - 0（33195位）
9278位 モルド−イノ カンパニー リミテッド 1 - 0（33195位）
9278位 株式会社洋行 1 - 0（33195位）
9278位 株式会社ミルックス 1 - 0（33195位）
9278位 ディール、メタル、シュティフトゥング、ウント、コンパニー、コマンディトゲゼルシャフト 1 - 0（33195位）
9278位 旭鍍金株式会社 1 - 1（12004位）
9278位 株式会社イースト 1 - 0（33195位）
9278位 ▲きょ▼ 貽▲とう▼ 1 - 0（33195位）
9278位 中上 和展 1 - 0（33195位）
9278位 ＪＯＳシステム有限会社 1 - 0（33195位）
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。

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発明の創出・拡げ方(化学)

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はじめての米国特許

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