- 2025年8月15日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月15日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12004位 | 佐藤 静男 佐藤 静男 | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
12004位 | 八幡 貞男 八幡 貞男 | 1 | - | 0 | 2(5986位) |
12004位 | バーゼル、ポリオレフィン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング バーゼル、ポリオレフィン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | 1 | - | 0 | 9(2225位) |
12004位 | ザ ユニバーシティ オブ サザン カリフォルニア ザ ユニバーシティ オブ サザン カリフォルニア | 1 | ![]() |
2 | 0(24706位) |
12004位 | 株式会社松井色素化学工業所 株式会社松井色素化学工業所 | 1 | ![]() |
2 | 0(24706位) |
12004位 | ベーイーオー・メリュー ベーイーオー・メリュー | 1 | ![]() |
2 | 3(4519位) |
12004位 | 後藤 俊夫 後藤 俊夫 | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | 韓国原子力研究院 韓国原子力研究院 | 1 | ![]() |
2 | 3(4519位) |
12004位 | 株式会社立花エレテック 株式会社立花エレテック | 1 | ![]() |
5 | 2(5986位) |
12004位 | 技研金物株式会社 技研金物株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 3(4519位) |
12004位 | ユッチンソン ユッチンソン | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | 小山 央二 小山 央二 | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
12004位 | 不二電機工業株式会社 不二電機工業株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 2(5986位) |
12004位 | 株式会社蔵持ハウジング 株式会社蔵持ハウジング | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | シンリュウ株式会社 シンリュウ株式会社 | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | マイーア・アクチボラゲット マイーア・アクチボラゲット | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | アルテル、インコーポレイテッド アルテル、インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | マゼランシステムズジャパン株式会社 マゼランシステムズジャパン株式会社 | 1 | ![]() |
3 | 1(9278位) |
12004位 | 佐藤 隆久 佐藤 隆久 | 1 | - | 0 | 0(24706位) |
12004位 | 株式会社アイアンドディー 株式会社アイアンドディー | 1 | ![]() |
1 | 0(24706位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月15日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
4519位 | 株式会社栗原工業 | 3 | ![]() |
1 | 1(12004位) |
4519位 | セフィード | 3 | ![]() |
4 | 0(33195位) |
4519位 | マウナ ケア テクノロジーズ | 3 | ![]() |
3 | 0(33195位) |
4519位 | アンジェスMG株式会社 | 3 | ![]() |
3 | 3(5141位) |
4519位 | 三山工業株式会社 | 3 | ![]() |
3 | 3(5141位) |
4519位 | ネクセオン リミテッド | 3 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
4519位 | アルフレッサファーマ株式会社 | 3 | ![]() |
4 | 3(5141位) |
4519位 | ルミゲン インク | 3 | ![]() |
1 | 1(12004位) |
4519位 | ホーメット リサーチ コーポレーション | 3 | ![]() |
5 | 0(33195位) |
4519位 | 理化工業株式会社 | 3 | ![]() |
3 | 4(4080位) |
4519位 | 株式会社ピコ・エイダ | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | 加藤 俊徳 | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | サム テクノロジーズ | 3 | ![]() |
2 | 0(33195位) |
4519位 | ネルジェコ | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | ユニバーシティ、オブ、サウサンプトン | 3 | ![]() |
1 | 2(7099位) |
4519位 | エスアイアイ・ネットワーク・システムズ株式会社 | 3 | ![]() |
1 | 2(7099位) |
4519位 | 富士高分子工業株式会社 | 3 | ![]() |
4 | 1(12004位) |
4519位 | 東西化学産業株式会社 | 3 | ![]() |
3 | 3(5141位) |
4519位 | ジボーダン ソシエテ アノニム | 3 | ![]() |
2 | 0(33195位) |
4519位 | 株式会社リード | 3 | ![]() |
1 | 6(3082位) |
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【大阪会場】 設計図面に隠れている発明を見出す発明発掘(図面発掘)~「知財ポートフォリオ・マネジメント」を高めるために必須のテクニックを ケーススタディを通じて解説 ~
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