- 2024年9月20日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2024年9月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
1750位 | 東レ・ファインケミカル株式会社 東レ・ファインケミカル株式会社 | 13 | 1442位 | 19 | 17(1390位) |
1750位 | ナルコ カンパニー ナルコ カンパニー | 13 | 1125位 | 27 | 10(2071位) |
1750位 | 株式会社フジミインコーポレーテッド 株式会社フジミインコーポレーテッド | 13 | 2962位 | 7 | 13(1707位) |
1750位 | スカニア シーブイ アクチボラグ スカニア シーブイ アクチボラグ | 13 | 2670位 | 8 | 5(3248位) |
1750位 | 株式会社ササクラ 株式会社ササクラ | 13 | 1579位 | 17 | 19(1283位) |
1750位 | リバーモア ソフトウェア テクノロジー コーポレーション リバーモア ソフトウェア テクノロジー コーポレーション | 13 | 1892位 | 13 | 0(24706位) |
1750位 | エスケーテレコム株式会社 エスケーテレコム株式会社 | 13 | 1499位 | 18 | 27(981位) |
1750位 | フクダ電子株式会社 フクダ電子株式会社 | 13 | 1244位 | 23 | 22(1147位) |
1750位 | 三菱マテリアルテクノ株式会社 三菱マテリアルテクノ株式会社 | 13 | 1442位 | 19 | 10(2071位) |
1750位 | リコー光学株式会社 リコー光学株式会社 | 13 | 3789位 | 5 | 26(1010位) |
1750位 | エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド | 13 | 1892位 | 13 | 6(2899位) |
1750位 | 古河産機システムズ株式会社 古河産機システムズ株式会社 | 13 | 3789位 | 5 | 4(3746位) |
1750位 | 一般財団法人化学及血清療法研究所 一般財団法人化学及血清療法研究所 | 13 | 5677位 | 3 | 29(925位) |
1750位 | スミス アンド ネフュー ピーエルシー スミス アンド ネフュー ピーエルシー | 13 | 1301位 | 22 | 6(2899位) |
1750位 | 株式会社バンダイ 株式会社バンダイ | 13 | 1159位 | 26 | 23(1114位) |
1750位 | 富士通エフ・アイ・ピー株式会社 富士通エフ・アイ・ピー株式会社 | 13 | 1800位 | 14 | 22(1147位) |
1750位 | 東プレ株式会社 東プレ株式会社 | 13 | 2282位 | 10 | 8(2389位) |
1750位 | 株式会社グローバル・ニュークリア・フュエル・ジャパン 株式会社グローバル・ニュークリア・フュエル・ジャパン | 13 | 1636位 | 16 | 10(2071位) |
1750位 | 西芝電機株式会社 西芝電機株式会社 | 13 | 1892位 | 13 | 17(1390位) |
1750位 | オンコセラピー・サイエンス株式会社 オンコセラピー・サイエンス株式会社 | 13 | 1043位 | 30 | 10(2071位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2024年9月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
2225位 | カネソウ株式会社 | 9 | 1745位 | 11 | 11(1974位) |
2225位 | 公立大学法人首都大学東京 | 9 | 2941位 | 5 | 50(664位) |
2225位 | ライカ インストルメンツ(シンガポール)プライベート リミテッド | 9 | 2005位 | 9 | 0(33195位) |
2225位 | 株式会社オーバル | 9 | 1644位 | 12 | 7(2749位) |
2225位 | 日本新薬株式会社 | 9 | 2941位 | 5 | 5(3481位) |
2225位 | TTI・エルビュー株式会社 | 9 | - | 0 | 0(33195位) |
2225位 | 原田 哲男 | 9 | - | 0 | 5(3481位) |
2225位 | 株式会社三徳 | 9 | 1745位 | 11 | 6(3082位) |
2225位 | 大成ラミック株式会社 | 9 | 1745位 | 11 | 3(5141位) |
2225位 | 財団法人生産技術研究奨励会 | 9 | 1381位 | 15 | 7(2749位) |
2225位 | 株式会社中西エンジニアリング | 9 | 1745位 | 11 | 0(33195位) |
2225位 | ローデンストック.ゲゼルシャフト.ミット.ベシュレンクテル.ハフツング | 9 | 3422位 | 4 | 4(4080位) |
2225位 | 株式会社タハラ | 9 | 2941位 | 5 | 0(33195位) |
2225位 | カンパニョーロ・ソシエタ・ア・レスポンサビリタ・リミタータ | 9 | 2941位 | 5 | 2(7099位) |
2225位 | 株式会社NEOMAXマテリアル | 9 | 2347位 | 7 | 5(3481位) |
2225位 | 株式会社ピカコーポレイション | 9 | 2941位 | 5 | 3(5141位) |
2225位 | ウエラ アクチェンゲゼルシャフト | 9 | 1381位 | 15 | 0(33195位) |
2225位 | 昭和電線デバイステクノロジー株式会社 | 9 | 3422位 | 4 | 0(33195位) |
2225位 | 戸津 勝行 | 9 | 4188位 | 3 | 4(4080位) |
2225位 | ロベルト ボッシュ ゲゼルシャフト ミト ベシュレンクテル ハフツング | 9 | 5419位 | 2 | 1(12004位) |
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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