- 2025年6月10日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2025年6月10日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
1750位 | 東レ・ファインケミカル株式会社 東レ・ファインケミカル株式会社 | 13 | ![]() |
19 | 17(1390位) |
1750位 | ナルコ カンパニー ナルコ カンパニー | 13 | ![]() |
27 | 10(2071位) |
1750位 | 株式会社フジミインコーポレーテッド 株式会社フジミインコーポレーテッド | 13 | ![]() |
7 | 13(1707位) |
1750位 | スカニア シーブイ アクチボラグ スカニア シーブイ アクチボラグ | 13 | ![]() |
8 | 5(3248位) |
1750位 | 株式会社ササクラ 株式会社ササクラ | 13 | ![]() |
17 | 19(1283位) |
1750位 | リバーモア ソフトウェア テクノロジー コーポレーション リバーモア ソフトウェア テクノロジー コーポレーション | 13 | ![]() |
13 | 0(24706位) |
1750位 | エスケーテレコム株式会社 エスケーテレコム株式会社 | 13 | ![]() |
18 | 27(981位) |
1750位 | フクダ電子株式会社 フクダ電子株式会社 | 13 | ![]() |
23 | 22(1147位) |
1750位 | 三菱マテリアルテクノ株式会社 三菱マテリアルテクノ株式会社 | 13 | ![]() |
19 | 10(2071位) |
1750位 | リコー光学株式会社 リコー光学株式会社 | 13 | ![]() |
5 | 26(1010位) |
1750位 | エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド | 13 | ![]() |
13 | 6(2899位) |
1750位 | 古河産機システムズ株式会社 古河産機システムズ株式会社 | 13 | ![]() |
5 | 4(3746位) |
1750位 | 一般財団法人化学及血清療法研究所 一般財団法人化学及血清療法研究所 | 13 | ![]() |
3 | 29(925位) |
1750位 | スミス アンド ネフュー ピーエルシー スミス アンド ネフュー ピーエルシー | 13 | ![]() |
22 | 6(2899位) |
1750位 | 株式会社バンダイ 株式会社バンダイ | 13 | ![]() |
26 | 23(1114位) |
1750位 | 富士通エフ・アイ・ピー株式会社 富士通エフ・アイ・ピー株式会社 | 13 | ![]() |
14 | 22(1147位) |
1750位 | 東プレ株式会社 東プレ株式会社 | 13 | ![]() |
10 | 8(2389位) |
1750位 | 株式会社グローバル・ニュークリア・フュエル・ジャパン 株式会社グローバル・ニュークリア・フュエル・ジャパン | 13 | ![]() |
16 | 10(2071位) |
1750位 | 西芝電機株式会社 西芝電機株式会社 | 13 | ![]() |
13 | 17(1390位) |
1750位 | オンコセラピー・サイエンス株式会社 オンコセラピー・サイエンス株式会社 | 13 | ![]() |
30 | 10(2071位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2025年6月10日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
4519位 | バッテル メモリアル インスティチュート | 3 | ![]() |
2 | 2(7099位) |
4519位 | 株式会社ケミカル山本 | 3 | - | 0 | 3(5141位) |
4519位 | モーディーン・マニュファクチャリング・カンパニー | 3 | ![]() |
1 | 1(12004位) |
4519位 | クノール−ブレームス レール システムス (ユーケー) リミテッド | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
4519位 | 株式会社原子力安全システム研究所 | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
4519位 | 株式会社キクテック | 3 | ![]() |
2 | 9(2279位) |
4519位 | 株式会社フロンテア | 3 | ![]() |
3 | 3(5141位) |
4519位 | 新和産業株式会社 | 3 | ![]() |
5 | 0(33195位) |
4519位 | バット ホールディング アーゲー | 3 | - | 0 | 6(3082位) |
4519位 | 株式会社ハタノ製作所 | 3 | ![]() |
1 | 7(2749位) |
4519位 | 古河樹脂加工株式会社 | 3 | ![]() |
4 | 3(5141位) |
4519位 | 株式会社 日本ハネック | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
4519位 | アドバンスド マスク テクノロジー センター ゲーエムベーハー ウント ツェーオー カーゲー | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | 瑞▲いー▼半導體股▲ふん▼有限公司 | 3 | ![]() |
2 | 1(12004位) |
4519位 | ヒョスン・コーポレーション | 3 | ![]() |
2 | 0(33195位) |
4519位 | ウイリアム エー クック オーストラリア ピィティワイ リミテッド | 3 | ![]() |
2 | 1(12004位) |
4519位 | アボット ダイアベティス ケア インコーポレイテッド | 3 | ![]() |
2 | 5(3481位) |
4519位 | マイデータ オートメーション アクチボラグ | 3 | ![]() |
10 | 0(33195位) |
4519位 | 森精機興産株式会社 | 3 | ![]() |
4 | 0(33195位) |
4519位 | 日立公共システムエンジニアリング株式会社 | 3 | ![]() |
3 | 3(5141位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
6月12日(木) -
6月12日(木) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月16日(月) - 東京 大田
6月17日(火) -
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6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
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6月19日(木) -
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月20日(金) - 愛知 名古屋市
6月16日(月) - 東京 大田
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