- 2025年5月30日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2025年5月30日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
1750位 | 東レ・ファインケミカル株式会社 東レ・ファインケミカル株式会社 | 13 | ![]() |
19 | 17(1390位) |
1750位 | ナルコ カンパニー ナルコ カンパニー | 13 | ![]() |
27 | 10(2071位) |
1750位 | 株式会社フジミインコーポレーテッド 株式会社フジミインコーポレーテッド | 13 | ![]() |
7 | 13(1707位) |
1750位 | スカニア シーブイ アクチボラグ スカニア シーブイ アクチボラグ | 13 | ![]() |
8 | 5(3248位) |
1750位 | 株式会社ササクラ 株式会社ササクラ | 13 | ![]() |
17 | 19(1283位) |
1750位 | リバーモア ソフトウェア テクノロジー コーポレーション リバーモア ソフトウェア テクノロジー コーポレーション | 13 | ![]() |
13 | 0(24706位) |
1750位 | エスケーテレコム株式会社 エスケーテレコム株式会社 | 13 | ![]() |
18 | 27(981位) |
1750位 | フクダ電子株式会社 フクダ電子株式会社 | 13 | ![]() |
23 | 22(1147位) |
1750位 | 三菱マテリアルテクノ株式会社 三菱マテリアルテクノ株式会社 | 13 | ![]() |
19 | 10(2071位) |
1750位 | リコー光学株式会社 リコー光学株式会社 | 13 | ![]() |
5 | 26(1010位) |
1750位 | エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド | 13 | ![]() |
13 | 6(2899位) |
1750位 | 古河産機システムズ株式会社 古河産機システムズ株式会社 | 13 | ![]() |
5 | 4(3746位) |
1750位 | 一般財団法人化学及血清療法研究所 一般財団法人化学及血清療法研究所 | 13 | ![]() |
3 | 29(925位) |
1750位 | スミス アンド ネフュー ピーエルシー スミス アンド ネフュー ピーエルシー | 13 | ![]() |
22 | 6(2899位) |
1750位 | 株式会社バンダイ 株式会社バンダイ | 13 | ![]() |
26 | 23(1114位) |
1750位 | 富士通エフ・アイ・ピー株式会社 富士通エフ・アイ・ピー株式会社 | 13 | ![]() |
14 | 22(1147位) |
1750位 | 東プレ株式会社 東プレ株式会社 | 13 | ![]() |
10 | 8(2389位) |
1750位 | 株式会社グローバル・ニュークリア・フュエル・ジャパン 株式会社グローバル・ニュークリア・フュエル・ジャパン | 13 | ![]() |
16 | 10(2071位) |
1750位 | 西芝電機株式会社 西芝電機株式会社 | 13 | ![]() |
13 | 17(1390位) |
1750位 | オンコセラピー・サイエンス株式会社 オンコセラピー・サイエンス株式会社 | 13 | ![]() |
30 | 10(2071位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2025年5月30日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
660位 | グラクソ グループ リミテッド | 45 | ![]() |
50 | 75(482位) |
660位 | 大塚製薬株式会社 | 45 | ![]() |
28 | 40(776位) |
660位 | エーザイ・アール・アンド・ディー・マネジメント株式会社 | 45 | ![]() |
49 | 45(718位) |
660位 | 株式会社高尾 | 45 | ![]() |
49 | 85(442位) |
660位 | エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド | 45 | ![]() |
22 | 41(767位) |
660位 | エヌエイチエヌ コーポレーション | 45 | ![]() |
17 | 24(1094位) |
660位 | 独立行政法人 国立印刷局 | 45 | ![]() |
46 | 64(557位) |
660位 | 富士機工株式会社 | 45 | ![]() |
11 | 26(1042位) |
660位 | 倉敷化工株式会社 | 45 | ![]() |
29 | 29(971位) |
660位 | ヘッドウェイテクノロジーズ インコーポレイテッド | 45 | ![]() |
20 | 49(676位) |
660位 | 新日軽株式会社 | 45 | ![]() |
62 | 17(1434位) |
660位 | エスアーペー アーゲー | 45 | ![]() |
29 | 5(3481位) |
673位 | ロレアル | 44 | ![]() |
56 | 68(527位) |
673位 | アストラゼネカ・アクチエボラーグ | 44 | ![]() |
42 | 50(664位) |
673位 | アバゴ・テクノロジーズ・ジェネラル・アイピー(シンガポール)プライベート・リミテッド | 44 | ![]() |
16 | 3(5141位) |
673位 | 国立大学法人九州大学 | 44 | ![]() |
29 | 77(473位) |
673位 | ニスカ株式会社 | 44 | ![]() |
32 | 84(447位) |
673位 | レイセオン カンパニー | 44 | ![]() |
53 | 44(728位) |
673位 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 44 | ![]() |
57 | 25(1072位) |
673位 | 日本電産サーボ株式会社 | 44 | ![]() |
27 | 11(1974位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
6月4日(水) -
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