- 2024年9月20日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2024年9月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
1750位 | 東レ・ファインケミカル株式会社 東レ・ファインケミカル株式会社 | 13 | 1442位 | 19 | 17(1390位) |
1750位 | ナルコ カンパニー ナルコ カンパニー | 13 | 1125位 | 27 | 10(2071位) |
1750位 | 株式会社フジミインコーポレーテッド 株式会社フジミインコーポレーテッド | 13 | 2962位 | 7 | 13(1707位) |
1750位 | スカニア シーブイ アクチボラグ スカニア シーブイ アクチボラグ | 13 | 2670位 | 8 | 5(3248位) |
1750位 | 株式会社ササクラ 株式会社ササクラ | 13 | 1579位 | 17 | 19(1283位) |
1750位 | リバーモア ソフトウェア テクノロジー コーポレーション リバーモア ソフトウェア テクノロジー コーポレーション | 13 | 1892位 | 13 | 0(24706位) |
1750位 | エスケーテレコム株式会社 エスケーテレコム株式会社 | 13 | 1499位 | 18 | 27(981位) |
1750位 | フクダ電子株式会社 フクダ電子株式会社 | 13 | 1244位 | 23 | 22(1147位) |
1750位 | 三菱マテリアルテクノ株式会社 三菱マテリアルテクノ株式会社 | 13 | 1442位 | 19 | 10(2071位) |
1750位 | リコー光学株式会社 リコー光学株式会社 | 13 | 3789位 | 5 | 26(1010位) |
1750位 | エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド | 13 | 1892位 | 13 | 6(2899位) |
1750位 | 古河産機システムズ株式会社 古河産機システムズ株式会社 | 13 | 3789位 | 5 | 4(3746位) |
1750位 | 一般財団法人化学及血清療法研究所 一般財団法人化学及血清療法研究所 | 13 | 5677位 | 3 | 29(925位) |
1750位 | スミス アンド ネフュー ピーエルシー スミス アンド ネフュー ピーエルシー | 13 | 1301位 | 22 | 6(2899位) |
1750位 | 株式会社バンダイ 株式会社バンダイ | 13 | 1159位 | 26 | 23(1114位) |
1750位 | 富士通エフ・アイ・ピー株式会社 富士通エフ・アイ・ピー株式会社 | 13 | 1800位 | 14 | 22(1147位) |
1750位 | 東プレ株式会社 東プレ株式会社 | 13 | 2282位 | 10 | 8(2389位) |
1750位 | 株式会社グローバル・ニュークリア・フュエル・ジャパン 株式会社グローバル・ニュークリア・フュエル・ジャパン | 13 | 1636位 | 16 | 10(2071位) |
1750位 | 西芝電機株式会社 西芝電機株式会社 | 13 | 1892位 | 13 | 17(1390位) |
1750位 | オンコセラピー・サイエンス株式会社 オンコセラピー・サイエンス株式会社 | 13 | 1043位 | 30 | 10(2071位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2024年9月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
1190位 | NECビッグローブ株式会社 | 21 | 1539位 | 13 | 20(1258位) |
1190位 | ローランド株式会社 | 21 | 896位 | 26 | 15(1563位) |
1190位 | 日本アンテナ株式会社 | 21 | 1155位 | 19 | 15(1563位) |
1190位 | NECエナジーデバイス株式会社 | 21 | 4188位 | 3 | 27(1015位) |
1190位 | エレクトロニクス アンド テレコミュニケーションズ リサーチ インスチチュート | 21 | 1745位 | 11 | 24(1094位) |
1190位 | ▲ホア▼▲ウェイ▼技術有限公司 | 21 | 1012位 | 22 | 15(1563位) |
1190位 | 三井住友建設株式会社 | 21 | 621位 | 42 | 34(869位) |
1190位 | 国立大学法人 筑波大学 | 21 | 631位 | 41 | 69(516位) |
1190位 | 東洋アルミニウム株式会社 | 21 | 1446位 | 14 | 27(1015位) |
1190位 | キヤノンソフトウェア株式会社 | 21 | 2174位 | 8 | 53(636位) |
1190位 | クラリアント・プロドゥクテ・(ドイチュラント)・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 21 | 1210位 | 18 | 1(12004位) |
1190位 | 独立行政法人海上技術安全研究所 | 21 | 1872位 | 10 | 26(1042位) |
1190位 | 戸田建設株式会社 | 21 | 1210位 | 18 | 37(821位) |
1190位 | 日立コンピュータ機器株式会社 | 21 | 1872位 | 10 | 23(1140位) |
1190位 | アジレント・テクノロジーズ・インク | 21 | 1108位 | 20 | 12(1852位) |
1190位 | ゴア エンタープライズ ホールディングス,インコーポレイティド | 21 | 1539位 | 13 | 32(908位) |
1190位 | 株式会社大塚製薬工場 | 21 | 954位 | 24 | 11(1974位) |
1190位 | ツィンファ ユニバーシティ | 21 | 1644位 | 12 | 64(557位) |
1190位 | 日華化学株式会社 | 21 | 753位 | 32 | 18(1374位) |
1190位 | 内山工業株式会社 | 21 | 922位 | 25 | 13(1750位) |
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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