- 2025年8月8日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
1750位 | 東レ・ファインケミカル株式会社 東レ・ファインケミカル株式会社 | 13 | ![]() |
19 | 17(1390位) |
1750位 | ナルコ カンパニー ナルコ カンパニー | 13 | ![]() |
27 | 10(2071位) |
1750位 | 株式会社フジミインコーポレーテッド 株式会社フジミインコーポレーテッド | 13 | ![]() |
7 | 13(1707位) |
1750位 | スカニア シーブイ アクチボラグ スカニア シーブイ アクチボラグ | 13 | ![]() |
8 | 5(3248位) |
1750位 | 株式会社ササクラ 株式会社ササクラ | 13 | ![]() |
17 | 19(1283位) |
1750位 | リバーモア ソフトウェア テクノロジー コーポレーション リバーモア ソフトウェア テクノロジー コーポレーション | 13 | ![]() |
13 | 0(24706位) |
1750位 | エスケーテレコム株式会社 エスケーテレコム株式会社 | 13 | ![]() |
18 | 27(981位) |
1750位 | フクダ電子株式会社 フクダ電子株式会社 | 13 | ![]() |
23 | 22(1147位) |
1750位 | 三菱マテリアルテクノ株式会社 三菱マテリアルテクノ株式会社 | 13 | ![]() |
19 | 10(2071位) |
1750位 | リコー光学株式会社 リコー光学株式会社 | 13 | ![]() |
5 | 26(1010位) |
1750位 | エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド | 13 | ![]() |
13 | 6(2899位) |
1750位 | 古河産機システムズ株式会社 古河産機システムズ株式会社 | 13 | ![]() |
5 | 4(3746位) |
1750位 | 一般財団法人化学及血清療法研究所 一般財団法人化学及血清療法研究所 | 13 | ![]() |
3 | 29(925位) |
1750位 | スミス アンド ネフュー ピーエルシー スミス アンド ネフュー ピーエルシー | 13 | ![]() |
22 | 6(2899位) |
1750位 | 株式会社バンダイ 株式会社バンダイ | 13 | ![]() |
26 | 23(1114位) |
1750位 | 富士通エフ・アイ・ピー株式会社 富士通エフ・アイ・ピー株式会社 | 13 | ![]() |
14 | 22(1147位) |
1750位 | 東プレ株式会社 東プレ株式会社 | 13 | ![]() |
10 | 8(2389位) |
1750位 | 株式会社グローバル・ニュークリア・フュエル・ジャパン 株式会社グローバル・ニュークリア・フュエル・ジャパン | 13 | ![]() |
16 | 10(2071位) |
1750位 | 西芝電機株式会社 西芝電機株式会社 | 13 | ![]() |
13 | 17(1390位) |
1750位 | オンコセラピー・サイエンス株式会社 オンコセラピー・サイエンス株式会社 | 13 | ![]() |
30 | 10(2071位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9278位 | ポスコ リフラクトリーズ アンド エンヴァイラメント カンパニー リミテッド | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | ファーレイト、トリートメント、テクノロジーズ、リミテッド、ライアビリティー、カンパニー | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社大坪砕石 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | エルティエス カンパニー リミティッド | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | サンドヴィク・マテリアルズ・テクノロジー・ユーケイ・リミテッド | 1 | - | 0 | 1(12004位) |
9278位 | オーエヌシーイミューン リミテッド | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 林 寛治 | 1 | - | 0 | 1(12004位) |
9278位 | シグマ ラボラトリー オブ アリゾナ, インク. | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | ユニケマ ケミー ベスローテム ベンノットシャップ | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 有限会社モータウン | 1 | - | 0 | 1(12004位) |
9278位 | インターセプト株式会社 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 岸田 晶夫 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | エボテック・テヒノロギーズ・ゲーエムベーハー | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | プロフィタ・ビオロギッシャー・プフランツェンシュッツ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツ… | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | プラズマ サージカル インベストメンツ リミテッド | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 硬化クローム工業株式会社 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 有限会社 サコタカコ | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社鉄建ブリッジ | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 双友機工株式会社 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社アレン | 1 | - | 0 | 4(4080位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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【大阪会場】 設計図面に隠れている発明を見出す発明発掘(図面発掘)~「知財ポートフォリオ・マネジメント」を高めるために必須のテクニックを ケーススタディを通じて解説 ~
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