- 2024年12月20日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2024年12月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
2026位 | 小野谷機工株式会社 小野谷機工株式会社 | 11 | 3082位 | 6 | 5(3300位) |
2026位 | 日本製紙ケミカル株式会社 日本製紙ケミカル株式会社 | 11 | 2115位 | 10 | 4(3844位) |
2026位 | エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ | 11 | 2484位 | 8 | 12(1877位) |
2026位 | 星光PMC株式会社 星光PMC株式会社 | 11 | 1648位 | 14 | 21(1281位) |
2026位 | 日本トムソン株式会社 日本トムソン株式会社 | 11 | 3481位 | 5 | 13(1784位) |
2026位 | 新光電子株式会社 新光電子株式会社 | 11 | 7099位 | 2 | 5(3300位) |
2026位 | NECソフト株式会社 NECソフト株式会社 | 11 | 1015位 | 27 | 8(2452位) |
2026位 | イマジネイション テクノロジーズ リミテッド イマジネイション テクノロジーズ リミテッド | 11 | 2279位 | 9 | 8(2452位) |
2026位 | セメス株式会社 セメス株式会社 | 11 | 2484位 | 8 | 20(1326位) |
2026位 | ホアウェイ・テクノロジーズ・カンパニー・リミテッド ホアウェイ・テクノロジーズ・カンパニー・リミテッド | 11 | 3481位 | 5 | 26(1082位) |
2026位 | エルブイエムエイチ レシェルシェ エルブイエムエイチ レシェルシェ | 11 | 1852位 | 12 | 2(6156位) |
2026位 | 株式会社アイホー 株式会社アイホー | 11 | 3082位 | 6 | 6(2955位) |
2026位 | ノイロサーチ アクティーゼルスカブ ノイロサーチ アクティーゼルスカブ | 11 | 1203位 | 21 | 2(6156位) |
2026位 | 株式会社プライムポリマー 株式会社プライムポリマー | 11 | 1852位 | 12 | 23(1187位) |
2026位 | キリンビバレッジ株式会社 キリンビバレッジ株式会社 | 11 | 1974位 | 11 | 9(2270位) |
2026位 | ユミコア ソシエテ アノニム ユミコア ソシエテ アノニム | 11 | 3481位 | 5 | 0(25637位) |
2026位 | トータル・ペトロケミカルズ・リサーチ・フエリユイ トータル・ペトロケミカルズ・リサーチ・フエリユイ | 11 | 1203位 | 21 | 26(1082位) |
2026位 | アクゾ ノーベル ナムローゼ フェンノートシャップ アクゾ ノーベル ナムローゼ フェンノートシャップ | 11 | 1042位 | 26 | 34(885位) |
2026位 | ユニヴァーシティ オブ ワシントン ユニヴァーシティ オブ ワシントン | 11 | 1500位 | 16 | 7(2665位) |
2026位 | 株式会社日阪製作所 株式会社日阪製作所 | 11 | 7099位 | 2 | 10(2117位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2024年12月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9669位 | オーテック・プレツィジオーンスフィニッシュ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | エーヴェー ハンデルス−ウント コンスルティンク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツン… | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 國仲 基夫 | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | レイボルド オプティクス ゲーエムベーハー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | チュードノフスキー グレゴリー ヴィ | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | アブ アーベー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 山田 治 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | エムサー インコーポレーテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | テセコ プロプライアタリー リミティド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ヒュール,アンイェリカ | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | エクスィジェント インターナショナル インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | サエス ピュア ガス インク | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 特芸株式会社 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 飛田 收 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | シーエヌエス レスポンス,インコーポレーテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 曽木 正文 | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | カナディアン・エレクトロニクス・パウダーズ・コーポレーション | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ガーズ・ド・フランス | 1 | 9278位 | 1 | 0(32063位) |
9669位 | キュー−フリー・エーエスエー | 1 | 9278位 | 1 | 0(32063位) |
9669位 | ランブソン, ヴァーノン, エー. | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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