- 2025年8月7日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11791位 | アブゲノミクス コーペラティフ ユー.エー. アブゲノミクス コーペラティフ ユー.エー. | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | サイレンシード リミテッド サイレンシード リミテッド | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | ラボラトリオス ファルマセウティコス ロビ,ソシエダッド アノニマ ラボラトリオス ファルマセウティコス ロビ,ソシエダッド アノニマ | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | ファースト ケア プロダクツ リミテッド ファースト ケア プロダクツ リミテッド | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | 村上 恵 村上 恵 | 1 | ![]() |
1 | 1(9669位) |
11791位 | ソン・スンヨン ソン・スンヨン | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | ブルックヘイヴン サイエンス アソシエイツ ブルックヘイヴン サイエンス アソシエイツ | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | ズュード−ヒェミー・アクチェンゲゼルシャフト ズュード−ヒェミー・アクチェンゲゼルシャフト | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | 有限会社アートスタジオ 有限会社アートスタジオ | 1 | ![]() |
2 | 0(25637位) |
11791位 | ロジウェイズ フランス ロジウェイズ フランス | 1 | ![]() |
2 | 0(25637位) |
11791位 | MS&AD基礎研究所株式会社 MS&AD基礎研究所株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 1(9669位) |
11791位 | エムエーセー・アクティーゼルスカブ エムエーセー・アクティーゼルスカブ | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | 早瀬 敏弘 早瀬 敏弘 | 1 | ![]() |
1 | 1(9669位) |
11791位 | 西野 慎一朗 西野 慎一朗 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 白木 理絵 白木 理絵 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 長友 史郎 長友 史郎 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 株式会社日本紙工機械グループ 株式会社日本紙工機械グループ | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 株式会社 学研ホールディングス 株式会社 学研ホールディングス | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | ランド ローバー ランド ローバー | 1 | - | 0 | 1(9669位) |
11791位 | 長家 孝哉 長家 孝哉 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9669位 | 株式会社日本ナチュラルプロダクツ | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ジョイマックス ゲーエムベーハー | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | ヘンリッチ・チェン | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 株式会社タウ技研 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 山▲東緑▼叶制▲薬▼有限公司 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | カール・ツアイス・ビジョン・ゲーエムベーハー | 1 | ![]() |
1 | 1(11791位) |
9669位 | アウトティッシュ ゲーエムベーハー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | カッソーネ, アントニオ | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ウニアン・キミカ・フアルマセウチカ・ナシオナル・エシ/アー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 三船 俊二 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ノーリット メンブラーン テヒノロギー ベーフェー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | メイン・マネジメント・インスピレーション・エイジイ | 1 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
9669位 | ファウレシア イネンラオム ズィステーメ ゲーエムベーハー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 富士マスキング株式会社 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | マズア,ボジェック | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ラコトアリソン,シルヴァイン | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 株式会社ジェーアンドジェーケミカル | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | プサン ナショナル ユニバーシティー インダストリー−ユニバーシティー コーオペレイション ファンデ… | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | エナジー アブソープション システムズ, インク. | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 山岡 弘之 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
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