- 2025年8月22日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11791位 | 寺嶋 政司 寺嶋 政司 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社ヤマイチニューテクノロジー 株式会社ヤマイチニューテクノロジー | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 良永 知義 良永 知義 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ダナ−ファーバー キャンサー インスティテュート, インコーポレイテッド ダナ−ファーバー キャンサー インスティテュート, インコーポレイテッド | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 小山 光正 小山 光正 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 日本化工食品株式会社 日本化工食品株式会社 | 1 | - | 1(9669位) | |
11791位 | 石郷岡 透 石郷岡 透 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | スキンズ・キャピタル・プロプライエタリー・リミテッド スキンズ・キャピタル・プロプライエタリー・リミテッド | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | マックス マーラ ソシエタ レスポンサビリタ リミタータ ソシエタ ウニペルソネール マックス マーラ ソシエタ レスポンサビリタ リミタータ ソシエタ ウニペルソネール | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 畑 光彦 畑 光彦 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 木下 敏美 木下 敏美 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 川口 潔 川口 潔 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社studio3,25 株式会社studio3,25 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 原田 友美 原田 友美 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社 アイエンピー 株式会社 アイエンピー | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | クリプスィ エルエルシー クリプスィ エルエルシー | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 田中 琢也 田中 琢也 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 齋藤 勝彦 齋藤 勝彦 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 池田 愛子 池田 愛子 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 大興ヒューマンキー株式会社 大興ヒューマンキー株式会社 | 1 | - | 0(25637位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
3844位 | 大東化成工業株式会社 | 4 | ![]() |
1 | 9(2313位) |
3844位 | 宮崎 政安 | 4 | ![]() |
2 | 0(32063位) |
3844位 | エネル ディストリビュズィオーネ ソシエタ ペル アチオニ | 4 | ![]() |
2 | 0(32063位) |
3844位 | タカノフーズ株式会社 | 4 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
3844位 | 株式会社イツワ工業 | 4 | ![]() |
4 | 1(11791位) |
3844位 | ニチノル・デベロップメント・コーポレーション | 4 | ![]() |
4 | 0(32063位) |
3844位 | レクサム ヘルスケア パッケイジング インコーポレイテッド | 4 | ![]() |
2 | 0(32063位) |
3844位 | 株式会社九州日昌 | 4 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
3844位 | サーモ フィニガン リミテッド ライアビリティ カンパニー | 4 | ![]() |
3 | 7(2735位) |
3844位 | ポリコム・インコーポレイテッド | 4 | ![]() |
3 | 5(3467位) |
3844位 | グラクソスミスクライン・コンシューマー・ヘルスケア・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツ… | 4 | ![]() |
3 | 2(7092位) |
3844位 | サントル ナスィオナル ド ラ ルシェルシュ スィアンティフィク | 4 | - | 0 | 7(2735位) |
3844位 | 株式会社CDMコンサルティング | 4 | - | 0 | 3(5164位) |
3844位 | 株式会社デサント | 4 | ![]() |
3 | 2(7092位) |
3844位 | シージェイ チェイルジェダン コーポレイション | 4 | ![]() |
3 | 11(2026位) |
3844位 | 株式会社ビー・エム・エル | 4 | ![]() |
3 | 3(5164位) |
3844位 | 日本リークレス工業株式会社 | 4 | ![]() |
2 | 1(11791位) |
3844位 | 三信化工株式会社 | 4 | ![]() |
2 | 2(7092位) |
3844位 | サルティゴ・ゲーエムベーハー | 4 | ![]() |
1 | 4(4129位) |
3844位 | ティーアイ グループ オートモーティブ システムズ エル.エル.シー. | 4 | ![]() |
2 | 2(7092位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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