- 2025年8月22日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11791位 | 寺嶋 政司 寺嶋 政司 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社ヤマイチニューテクノロジー 株式会社ヤマイチニューテクノロジー | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 良永 知義 良永 知義 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ダナ−ファーバー キャンサー インスティテュート, インコーポレイテッド ダナ−ファーバー キャンサー インスティテュート, インコーポレイテッド | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 小山 光正 小山 光正 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 日本化工食品株式会社 日本化工食品株式会社 | 1 | - | 1(9669位) | |
11791位 | 石郷岡 透 石郷岡 透 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | スキンズ・キャピタル・プロプライエタリー・リミテッド スキンズ・キャピタル・プロプライエタリー・リミテッド | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | マックス マーラ ソシエタ レスポンサビリタ リミタータ ソシエタ ウニペルソネール マックス マーラ ソシエタ レスポンサビリタ リミタータ ソシエタ ウニペルソネール | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 畑 光彦 畑 光彦 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 木下 敏美 木下 敏美 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 川口 潔 川口 潔 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社studio3,25 株式会社studio3,25 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 原田 友美 原田 友美 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社 アイエンピー 株式会社 アイエンピー | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | クリプスィ エルエルシー クリプスィ エルエルシー | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 田中 琢也 田中 琢也 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 齋藤 勝彦 齋藤 勝彦 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 池田 愛子 池田 愛子 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 大興ヒューマンキー株式会社 大興ヒューマンキー株式会社 | 1 | - | 0(25637位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
3844位 | 株式会社水研 | 4 | ![]() |
4 | 4(4129位) |
3844位 | アマゾン テクノロジーズ インコーポレイテッド | 4 | ![]() |
2 | 13(1780位) |
3844位 | エスアイアイ・ネットワーク・システムズ株式会社 | 4 | ![]() |
3 | 1(11791位) |
3844位 | ライオン・アクゾ株式会社 | 4 | ![]() |
2 | 0(32063位) |
3844位 | レクサム クロージャー システムズ インコーポレイテッド | 4 | ![]() |
2 | 1(11791位) |
3844位 | 株式会社アタゴ | 4 | ![]() |
1 | 1(11791位) |
3844位 | ヨウル チョン ケミカル カンパニー, リミテッド | 4 | ![]() |
1 | 3(5164位) |
3844位 | 株式会社 ノサカテック | 4 | - | 0 | 0(32063位) |
3844位 | ナヴコム テクノロジー インコーポレイテッド | 4 | ![]() |
3 | 3(5164位) |
3844位 | 株式会社横須賀テレコムリサーチパーク | 4 | ![]() |
3 | 5(3467位) |
3844位 | 中国科学院上海薬物研究所 | 4 | ![]() |
2 | 2(7092位) |
3844位 | ミツビシ ポリエステル フィルム インク | 4 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
3844位 | エバタ株式会社 | 4 | ![]() |
1 | 2(7092位) |
3844位 | 株式会社山口シネマ | 4 | ![]() |
2 | 1(11791位) |
3844位 | ネットスター株式会社 | 4 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
3844位 | アクセンチュア グローバル サーヴィシズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 4 | ![]() |
2 | 1(11791位) |
3844位 | メディカテック株式会社 | 4 | - | 0 | 9(2313位) |
3844位 | 株式会社渡辺商行 | 4 | - | 0 | 4(4129位) |
3844位 | 株式会社放電精密加工研究所 | 4 | ![]() |
8 | 2(7092位) |
3844位 | マルトモ株式会社 | 4 | ![]() |
1 | 2(7092位) |
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8月27日(水) - 東京 港区
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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