- 2025年8月12日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月12日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11791位 | 林 俊▲てい▼ 林 俊▲てい▼ | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ヒロサワ機械株式会社 ヒロサワ機械株式会社 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 平瀬 昭信 平瀬 昭信 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社セイブマリン 株式会社セイブマリン | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | テクニシェ ユニフェルシティート アインドーフェン テクニシェ ユニフェルシティート アインドーフェン | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ワン, ミュン オク ワン, ミュン オク | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | スヴァイ タービン アーエス スヴァイ タービン アーエス | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | バイロエアー エナジー インク. バイロエアー エナジー インク. | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ノルルハイドロ・オサケユキテュア ノルルハイドロ・オサケユキテュア | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社プラステコ 株式会社プラステコ | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 天津津亜電子有限公司 天津津亜電子有限公司 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 有限会社竹村技研 有限会社竹村技研 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社KDA 株式会社KDA | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社IPIC 株式会社IPIC | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社サーマルブロック 株式会社サーマルブロック | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 光トライオード株式会社 光トライオード株式会社 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | セージ サイエンス, インコーポレイテッド セージ サイエンス, インコーポレイテッド | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | テラセンス・グループ,インコーポレーテッド テラセンス・グループ,インコーポレーテッド | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | マイクロフルイド エイビー マイクロフルイド エイビー | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ビュベンドーフ ビュベンドーフ | 1 | - | 0(25637位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月12日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
720位 | SMC株式会社 | 44 | ![]() |
56 | 30(958位) |
720位 | コンビ株式会社 | 44 | ![]() |
40 | 12(1902位) |
720位 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 44 | ![]() |
44 | 29(982位) |
720位 | 株式会社オハラ | 44 | ![]() |
31 | 75(494位) |
720位 | DOWAメタルテック株式会社 | 44 | ![]() |
35 | 19(1343位) |
720位 | アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド | 44 | ![]() |
61 | 50(644位) |
720位 | リケンテクノス株式会社 | 44 | ![]() |
39 | 18(1400位) |
720位 | スミダコーポレーション株式会社 | 44 | ![]() |
47 | 19(1343位) |
720位 | 高園産業株式会社 | 44 | ![]() |
15 | 17(1466位) |
730位 | 株式会社マンダム | 43 | ![]() |
15 | 32(914位) |
730位 | NECフィールディング株式会社 | 43 | ![]() |
41 | 16(1535位) |
730位 | シェーリング コーポレイション | 43 | ![]() |
52 | 65(533位) |
730位 | シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ | 43 | ![]() |
16 | 16(1535位) |
730位 | 藤森工業株式会社 | 43 | ![]() |
32 | 39(787位) |
730位 | 三井・デュポンポリケミカル株式会社 | 43 | ![]() |
49 | 28(1005位) |
730位 | アロン化成株式会社 | 43 | ![]() |
32 | 30(958位) |
730位 | アイカ工業株式会社 | 43 | ![]() |
34 | 49(649位) |
730位 | 株式会社日本マイクロニクス | 43 | ![]() |
33 | 36(832位) |
730位 | 荒川化学工業株式会社 | 43 | ![]() |
48 | 38(795位) |
730位 | 株式会社フジタ | 43 | ![]() |
49 | 40(772位) |
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【大阪会場】 設計図面に隠れている発明を見出す発明発掘(図面発掘)~「知財ポートフォリオ・マネジメント」を高めるために必須のテクニックを ケーススタディを通じて解説 ~
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