- 2025年8月22日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11791位 | サンゴバン イゾベール アーベー サンゴバン イゾベール アーベー | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | トップ・ソシエタ・ペル・アチオニ・ア・ソチオ・ユニコ トップ・ソシエタ・ペル・アチオニ・ア・ソチオ・ユニコ | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 有限会社杏和建具 有限会社杏和建具 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ランバージャック ピーティーワイ リミテッド ランバージャック ピーティーワイ リミテッド | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 呉文鎭 呉文鎭 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 有限会社久万重機サービス 有限会社久万重機サービス | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 田邊 彰憲 田邊 彰憲 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 岩崎 光雄 岩崎 光雄 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | テンペロ 2000 エス.エル. テンペロ 2000 エス.エル. | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | フロック コーポレーション フロック コーポレーション | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 張文聰 張文聰 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | フレイク,ハルトムート フレイク,ハルトムート | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | チュモクフバロフ・アンドレイ・ミハイロヴィッチ チュモクフバロフ・アンドレイ・ミハイロヴィッチ | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ホン タオ ホン タオ | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 耐點科技有限公司 耐點科技有限公司 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | レイバンテック株式会社 レイバンテック株式会社 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社後藤工業 株式会社後藤工業 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社 灯 株式会社 灯 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ソノダ照明株式会社 ソノダ照明株式会社 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | エルミゲン エルエルシー エルミゲン エルエルシー | 1 | - | 0(25637位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
3300位 | アレイ バイオファーマ、インコーポレイテッド | 5 | ![]() |
5 | 12(1902位) |
3300位 | 東京理化器械株式会社 | 5 | ![]() |
8 | 3(5164位) |
3300位 | コドマン・アンド・シャートレフ・インコーポレイテッド | 5 | ![]() |
19 | 5(3467位) |
3300位 | 株式会社 ジャパン・ティッシュ・エンジニアリング | 5 | ![]() |
5 | 1(11791位) |
3300位 | シーメンス・ウォーター・テクノロジーズ・コーポレーション | 5 | ![]() |
5 | 2(7092位) |
3300位 | 株式会社アマダエンジニアリングセンター | 5 | ![]() |
28 | 0(32063位) |
3300位 | ガンツ化成株式会社 | 5 | ![]() |
3 | 0(32063位) |
3300位 | 山本光学株式会社 | 5 | ![]() |
11 | 3(5164位) |
3300位 | 株式会社菊池製作所 | 5 | ![]() |
2 | 4(4129位) |
3300位 | オリヒロエンジニアリング株式会社 | 5 | ![]() |
6 | 3(5164位) |
3300位 | キタノ製作株式会社 | 5 | ![]() |
5 | 1(11791位) |
3300位 | 株式会社インターパック | 5 | ![]() |
6 | 0(32063位) |
3300位 | デマグ クレインズ アンド コンポーネンツ ゲーエムベーハー | 5 | ![]() |
2 | 3(5164位) |
3300位 | ランクセス・インコーポレイテッド | 5 | ![]() |
7 | 1(11791位) |
3300位 | 日本表面化学株式会社 | 5 | ![]() |
10 | 11(2026位) |
3300位 | カール マイヤー テクスティルマシーネンファブリーク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクター ハフ… | 5 | ![]() |
6 | 0(32063位) |
3300位 | 株式会社プロテックエンジニアリング | 5 | ![]() |
8 | 3(5164位) |
3300位 | サンテック株式会社 | 5 | ![]() |
3 | 6(3044位) |
3300位 | エステーミクロエレクトロニクス ソシエテ アノニム | 5 | ![]() |
16 | 0(32063位) |
3300位 | 南亞科技股▲ふん▼有限公司 | 5 | ![]() |
9 | 0(32063位) |
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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