- 2025年2月7日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
4129位 | 株式会社ニチリン 株式会社ニチリン | 4 | ![]() |
9 | 8(2452位) |
4129位 | ベントレー モーターズ リミテッド ベントレー モーターズ リミテッド | 4 | ![]() |
1 | 1(9669位) |
4129位 | 株式会社ナンシン 株式会社ナンシン | 4 | ![]() |
4 | 3(4646位) |
4129位 | 不二精機株式会社 不二精機株式会社 | 4 | ![]() |
1 | 6(2955位) |
4129位 | 大和グラビヤ株式会社 大和グラビヤ株式会社 | 4 | ![]() |
9 | 5(3300位) |
4129位 | 財団法人ファインセラミックスセンター 財団法人ファインセラミックスセンター | 4 | ![]() |
11 | 8(2452位) |
4129位 | 富士シリシア化学株式会社 富士シリシア化学株式会社 | 4 | ![]() |
4 | 0(25637位) |
4129位 | ロンシール工業株式会社 ロンシール工業株式会社 | 4 | ![]() |
8 | 17(1478位) |
4129位 | ウィンテックポリマー株式会社 ウィンテックポリマー株式会社 | 4 | ![]() |
7 | 8(2452位) |
4129位 | Ipsen株式会社 Ipsen株式会社 | 4 | ![]() |
3 | 0(25637位) |
4129位 | 環境工学株式会社 環境工学株式会社 | 4 | ![]() |
3 | 3(4646位) |
4129位 | マツ六株式会社 マツ六株式会社 | 4 | ![]() |
5 | 5(3300位) |
4129位 | 株式会社内外 株式会社内外 | 4 | ![]() |
3 | 4(3844位) |
4129位 | 株式会社国元商会 株式会社国元商会 | 4 | ![]() |
7 | 3(4646位) |
4129位 | 協和メデックス株式会社 協和メデックス株式会社 | 4 | ![]() |
6 | 12(1877位) |
4129位 | 大西 一正 大西 一正 | 4 | ![]() |
16 | 3(4646位) |
4129位 | システム計測株式会社 システム計測株式会社 | 4 | ![]() |
6 | 1(9669位) |
4129位 | 北海道電力株式会社 北海道電力株式会社 | 4 | ![]() |
4 | 5(3300位) |
4129位 | リアルディー インコーポレイテッド リアルディー インコーポレイテッド | 4 | ![]() |
4 | 5(3300位) |
4129位 | 林 孝郎 林 孝郎 | 4 | ![]() |
5 | 1(9669位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9669位 | ホイールス・ブリツジ・アー・ベー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | サアソール テクノロジー (ピー ティ ワイ)エルティーディー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | アリゾナ ケミカル | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | キャステック メカトロン インダストリー カンパニー リミテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | チュンクオ シュユウ ファコン ジトゥアン コンス | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 中村 敬徳 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ビース、リチャード・ジェイ | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 株式会社総和 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 王子コンテナー株式会社 | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | ザ ボード オブ リージェンツ オブ ザ ユニヴァーシティー オブ オクラホマ | 1 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
9669位 | ホイレ ベルクツオイク アーゲー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | シーテイエス・ケミカル・インダストリーズ・リミテツド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 小川 倉一 | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | コンピューター アソシエイツ シンク インク | 1 | - | 0 | 6(3044位) |
9669位 | 株式会社イー・エー・シー | 1 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
9669位 | 原島 愛一郎 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 北村 晃 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ファウラー リック | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | パリス,ローレンス | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | オープン エア システムズ ゲゼルシャフト ミット べシュレンクテル ハフツング | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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