- 2025年2月14日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月14日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
4129位 | 新潟県 新潟県 | 4 | ![]() |
2 | 7(2665位) |
4129位 | 株式会社トスカ 株式会社トスカ | 4 | ![]() |
1 | 3(4646位) |
4129位 | セルラー ダイナミクス インターナショナル, インコーポレイテッド セルラー ダイナミクス インターナショナル, インコーポレイテッド | 4 | ![]() |
2 | 0(25637位) |
4129位 | 株式会社マツ・ショウ 株式会社マツ・ショウ | 4 | - | 0 | 1(9669位) |
4129位 | 山本 憲司 山本 憲司 | 4 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
4129位 | 上海交通大学 上海交通大学 | 4 | - | 0 | 0(25637位) |
4129位 | 財団法人21あおもり産業総合支援センター 財団法人21あおもり産業総合支援センター | 4 | - | 0 | 2(6156位) |
4129位 | エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド | 4 | ![]() |
2 | 1(9669位) |
4129位 | エービービー・オーワイ エービービー・オーワイ | 4 | ![]() |
1 | 1(9669位) |
4129位 | 株式会社プラッツ 株式会社プラッツ | 4 | ![]() |
1 | 4(3844位) |
4129位 | ダイセル・エボニック株式会社 ダイセル・エボニック株式会社 | 4 | ![]() |
1 | 5(3300位) |
4129位 | 株式会社東京洗染機械製作所 株式会社東京洗染機械製作所 | 4 | - | 0 | 7(2665位) |
4129位 | 荒井 昭男 荒井 昭男 | 4 | ![]() |
4 | 2(6156位) |
4129位 | アーベーベー・アーベー アーベーベー・アーベー | 4 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
4129位 | セイジ・エレクトロクロミクス,インコーポレイテッド セイジ・エレクトロクロミクス,インコーポレイテッド | 4 | - | 0 | 1(9669位) |
4129位 | ヒェメタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ヒェメタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 4 | ![]() |
2 | 5(3300位) |
4129位 | ベネク・オサケユキテュア ベネク・オサケユキテュア | 4 | ![]() |
3 | 2(6156位) |
4129位 | 弘和産業株式会社 弘和産業株式会社 | 4 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
4129位 | 日東薬品工業株式会社 日東薬品工業株式会社 | 4 | - | 0 | 0(25637位) |
4129位 | 株式会社ホクエイ 株式会社ホクエイ | 4 | ![]() |
5 | 0(25637位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月14日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
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2月21日(金) - 東京 大田
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