- 2025年2月17日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月17日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
4129位 | 新潟県 新潟県 | 4 | ![]() |
2 | 7(2665位) |
4129位 | 株式会社トスカ 株式会社トスカ | 4 | ![]() |
1 | 3(4646位) |
4129位 | セルラー ダイナミクス インターナショナル, インコーポレイテッド セルラー ダイナミクス インターナショナル, インコーポレイテッド | 4 | ![]() |
2 | 0(25637位) |
4129位 | 株式会社マツ・ショウ 株式会社マツ・ショウ | 4 | - | 0 | 1(9669位) |
4129位 | 山本 憲司 山本 憲司 | 4 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
4129位 | 上海交通大学 上海交通大学 | 4 | - | 0 | 0(25637位) |
4129位 | 財団法人21あおもり産業総合支援センター 財団法人21あおもり産業総合支援センター | 4 | - | 0 | 2(6156位) |
4129位 | エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド エーシーエム リサーチ (シャンハイ) インコーポレーテッド | 4 | ![]() |
2 | 1(9669位) |
4129位 | エービービー・オーワイ エービービー・オーワイ | 4 | ![]() |
1 | 1(9669位) |
4129位 | 株式会社プラッツ 株式会社プラッツ | 4 | ![]() |
1 | 4(3844位) |
4129位 | ダイセル・エボニック株式会社 ダイセル・エボニック株式会社 | 4 | ![]() |
1 | 5(3300位) |
4129位 | 株式会社東京洗染機械製作所 株式会社東京洗染機械製作所 | 4 | - | 0 | 7(2665位) |
4129位 | 荒井 昭男 荒井 昭男 | 4 | ![]() |
4 | 2(6156位) |
4129位 | アーベーベー・アーベー アーベーベー・アーベー | 4 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
4129位 | セイジ・エレクトロクロミクス,インコーポレイテッド セイジ・エレクトロクロミクス,インコーポレイテッド | 4 | - | 0 | 1(9669位) |
4129位 | ヒェメタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ヒェメタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 4 | ![]() |
2 | 5(3300位) |
4129位 | ベネク・オサケユキテュア ベネク・オサケユキテュア | 4 | ![]() |
3 | 2(6156位) |
4129位 | 弘和産業株式会社 弘和産業株式会社 | 4 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
4129位 | 日東薬品工業株式会社 日東薬品工業株式会社 | 4 | - | 0 | 0(25637位) |
4129位 | 株式会社ホクエイ 株式会社ホクエイ | 4 | ![]() |
5 | 0(25637位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月17日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
3300位 | 株式会社タカトリ | 5 | ![]() |
3 | 4(4129位) |
3300位 | 佐鳥エス・テック株式会社 | 5 | ![]() |
2 | 6(3044位) |
3300位 | ベックホフ オートメーション ゲーエムベーハー | 5 | ![]() |
3 | 3(5164位) |
3300位 | ミハル通信株式会社 | 5 | ![]() |
10 | 9(2313位) |
3300位 | 株式会社図研 | 5 | ![]() |
3 | 1(11791位) |
3300位 | タイコ・ヘルスケアー・グループ・エルピー | 5 | ![]() |
3 | 1(11791位) |
3300位 | アメリカン ステリライザー カンパニー | 5 | ![]() |
2 | 3(5164位) |
3300位 | ディーシーエー デザイン インターナショナル リミテッド | 5 | ![]() |
8 | 0(32063位) |
3300位 | サラヤ株式会社 | 5 | ![]() |
10 | 4(4129位) |
3300位 | 新光機器株式会社 | 5 | ![]() |
1 | 6(3044位) |
3300位 | 株式会社新興製作所 | 5 | ![]() |
5 | 5(3467位) |
3300位 | 丸善石油化学株式会社 | 5 | ![]() |
6 | 5(3467位) |
3300位 | イハラケミカル工業株式会社 | 5 | ![]() |
3 | 2(7092位) |
3300位 | KRH株式会社 | 5 | ![]() |
6 | 3(5164位) |
3300位 | フランツ プラツセル バーンバウマシーネン−インズストリーゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル … | 5 | ![]() |
7 | 4(4129位) |
3300位 | カナフレックスコーポレーション株式会社 | 5 | ![]() |
11 | 9(2313位) |
3300位 | 大電株式会社 | 5 | ![]() |
1 | 6(3044位) |
3300位 | テクノラス パーフェクト ビジョン ゲーエムベーハー | 5 | ![]() |
5 | 0(32063位) |
3300位 | ソニー インターナショナル (ヨーロッパ) ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 5 | ![]() |
15 | 3(5164位) |
3300位 | カール・ツァイス・エヌティーエス・ゲーエムベーハー | 5 | ![]() |
8 | 5(3467位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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