- 2025年8月15日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月15日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11791位 | 株式会社赤阪鉄工所 株式会社赤阪鉄工所 | 1 | ![]() |
1 | 1(9669位) |
11791位 | 株式会社TSS 株式会社TSS | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | オーエヌ工業株式会社 オーエヌ工業株式会社 | 1 | ![]() |
4 | 0(25637位) |
11791位 | 飯村 惠次 飯村 惠次 | 1 | ![]() |
2 | 0(25637位) |
11791位 | 庄司建設株式会社 庄司建設株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | 馬郡 文平 馬郡 文平 | 1 | ![]() |
2 | 0(25637位) |
11791位 | 伊藤 昇 伊藤 昇 | 1 | ![]() |
2 | 0(25637位) |
11791位 | 有限会社高橋製作所 有限会社高橋製作所 | 1 | ![]() |
1 | 1(9669位) |
11791位 | 株式会社エビス 株式会社エビス | 1 | ![]() |
4 | 5(3300位) |
11791位 | 株式会社三工光学 株式会社三工光学 | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | シカゴ マーカンタイル エクスチェンジ,インク. シカゴ マーカンタイル エクスチェンジ,インク. | 1 | ![]() |
1 | 6(2955位) |
11791位 | 小田 展生 小田 展生 | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | 小松電子株式会社 小松電子株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | 川村 敬一 川村 敬一 | 1 | ![]() |
2 | 2(6156位) |
11791位 | KCCSマネジメントコンサルティング株式会社 KCCSマネジメントコンサルティング株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | 株式会社ネクステッジテクノロジー 株式会社ネクステッジテクノロジー | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | ビアクリックス・インコーポレイテッド ビアクリックス・インコーポレイテッド | 1 | ![]() |
1 | 1(9669位) |
11791位 | 日本PLANET INT株式会社 日本PLANET INT株式会社 | 1 | ![]() |
2 | 0(25637位) |
11791位 | 宍戸 英臣 宍戸 英臣 | 1 | ![]() |
1 | 0(25637位) |
11791位 | 日本サービック株式会社 日本サービック株式会社 | 1 | ![]() |
2 | 0(25637位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月15日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9669位 | シュミット ウント ヴェーツェル ゲーエムベーハー ウント コー | 1 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
9669位 | 有限会社大和 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | エコクリム・ソシエテ・アノニム | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 吉村産業有限会社 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 小林 敏広 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 石坂 雄 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ギズモ パッケージング リミテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 株式会社 赤見製作所 | 1 | ![]() |
1 | 2(7092位) |
9669位 | ターター スチール リミテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | セラグリーン カンパニー リミテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | サートーマー・テクノロジー・カンパニー・インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 日勝スポーツ工業株式会社 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | メサビ ナゲット エルエルシー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 森村興産株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
9669位 | チョ,ホンシク | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ベルトラン,リュドヴィック | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ゴシオ,ディアノラ | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 森下 勝将 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 張 紀文 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ホライズン・テクノロジー・インク | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
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【大阪会場】 設計図面に隠れている発明を見出す発明発掘(図面発掘)~「知財ポートフォリオ・マネジメント」を高めるために必須のテクニックを ケーススタディを通じて解説 ~
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