- 2025年3月7日 更新 -
2013年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2013年 出願公開分 - データ更新日:2025年3月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2013年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12936位 | アマゼンティス エスアー アマゼンティス エスアー | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | ナショナル ブレイン リサーチ センタ ナショナル ブレイン リサーチ センタ | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | ラボラトリーズ フランス ベベ ニュートリション ラボラトリーズ フランス ベベ ニュートリション | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | グリフィス・ラボラトリーズ・インターナショナル・インコーポレイテッド グリフィス・ラボラトリーズ・インターナショナル・インコーポレイテッド | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 株式会社コマロジ 株式会社コマロジ | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 星野 法子 星野 法子 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 株式会社山名繁治郎商店 株式会社山名繁治郎商店 | 1 | - | 1(9789位) | |
12936位 | 本多 まり子 本多 まり子 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | オヴェラード オヴェラード | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 加曽利 正美 加曽利 正美 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | シム,サンーオク シム,サンーオク | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 武市 知子 武市 知子 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 山口 誠 山口 誠 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | ヴェーエムエフ ヴュルテンベルキッシュ メタルヴァーレンファブリーク アーゲー ヴェーエムエフ ヴュルテンベルキッシュ メタルヴァーレンファブリーク アーゲー | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | レグザードジャパン株式会社 レグザードジャパン株式会社 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 秋吉 朋久 秋吉 朋久 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 坂森 芳郎 坂森 芳郎 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 本木 しのぶ 本木 しのぶ | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 佐々木 秀美 佐々木 秀美 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 藤田 理絵 藤田 理絵 | 1 | - | 0(25899位) |
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2013年 特許登録分 - データ更新日:2025年3月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2013年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
3352位 | シロナ・デンタル・システムズ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 5 | ![]() |
3 | 4(4525位) |
3352位 | 学校法人東京女子医科大学 | 5 | ![]() |
5 | 10(2284位) |
3352位 | 東京濾器株式会社 | 5 | ![]() |
7 | 3(5661位) |
3352位 | エッペンドルフ アクチエンゲゼルシャフト | 5 | ![]() |
2 | 12(2030位) |
3352位 | マパル ファブリック フュール プラツィジョンズベルクゼウグ ドクトル.クレス カーゲー | 5 | ![]() |
3 | 1(12936位) |
3352位 | 西研グラフィックス株式会社 | 5 | ![]() |
3 | 0(34895位) |
3352位 | 株式会社フレッシュ | 5 | ![]() |
1 | 1(12936位) |
3352位 | アルコア インコーポレイテッド | 5 | ![]() |
4 | 8(2668位) |
3352位 | 中電プラント株式会社 | 5 | ![]() |
2 | 0(34895位) |
3352位 | 株式会社電業社機械製作所 | 5 | ![]() |
2 | 5(3781位) |
3352位 | 株式会社エム・ソフト | 5 | ![]() |
1 | 0(34895位) |
3352位 | 株式会社TRINC | 5 | ![]() |
2 | 1(12936位) |
3352位 | 行政院原子能委員会核能研究所 | 5 | ![]() |
11 | 1(12936位) |
3352位 | 朝日レントゲン工業株式会社 | 5 | ![]() |
4 | 8(2668位) |
3352位 | ラボラトワール フルニエ エス・アー | 5 | ![]() |
5 | 3(5661位) |
3352位 | カゴメ株式会社 | 5 | ![]() |
7 | 0(34895位) |
3352位 | アレヴァ・エンセ | 5 | ![]() |
4 | 0(34895位) |
3352位 | 岡谷電機産業株式会社 | 5 | ![]() |
4 | 2(7796位) |
3352位 | シンボル テクノロジーズ, インコーポレイテッド | 5 | ![]() |
9 | 6(3287位) |
3352位 | 愛知株式会社 | 5 | ![]() |
2 | 2(7796位) |
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