- 2024年12月13日 更新 -
2013年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2013年 出願公開分 - データ更新日:2024年12月13日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2013年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12936位 | アマゼンティス エスアー アマゼンティス エスアー | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | ナショナル ブレイン リサーチ センタ ナショナル ブレイン リサーチ センタ | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | ラボラトリーズ フランス ベベ ニュートリション ラボラトリーズ フランス ベベ ニュートリション | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | グリフィス・ラボラトリーズ・インターナショナル・インコーポレイテッド グリフィス・ラボラトリーズ・インターナショナル・インコーポレイテッド | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 株式会社コマロジ 株式会社コマロジ | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 星野 法子 星野 法子 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 株式会社山名繁治郎商店 株式会社山名繁治郎商店 | 1 | - | 1(9789位) | |
12936位 | 本多 まり子 本多 まり子 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | オヴェラード オヴェラード | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 加曽利 正美 加曽利 正美 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | シム,サンーオク シム,サンーオク | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 武市 知子 武市 知子 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 山口 誠 山口 誠 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | ヴェーエムエフ ヴュルテンベルキッシュ メタルヴァーレンファブリーク アーゲー ヴェーエムエフ ヴュルテンベルキッシュ メタルヴァーレンファブリーク アーゲー | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | レグザードジャパン株式会社 レグザードジャパン株式会社 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 秋吉 朋久 秋吉 朋久 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 坂森 芳郎 坂森 芳郎 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 本木 しのぶ 本木 しのぶ | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 佐々木 秀美 佐々木 秀美 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 藤田 理絵 藤田 理絵 | 1 | - | 0(25899位) |
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2013年 特許登録分 - データ更新日:2024年12月13日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2013年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
6233位 | 株式会社熊谷鉄工所 | 2 | - | 0 | 0(34895位) |
6233位 | 株式会社ホムズ技研 | 2 | 4646位 | 3 | 1(12936位) |
6233位 | テクストロニクス, インク. | 2 | 3844位 | 4 | 0(34895位) |
6233位 | 株式会社エムケイ | 2 | - | 0 | 0(34895位) |
6233位 | マリンハイドロテック株式会社 | 2 | - | 0 | 3(5661位) |
6233位 | 株式会社アルテコ | 2 | 6156位 | 2 | 0(34895位) |
6233位 | エア・ウォーターNV株式会社 | 2 | 6156位 | 2 | 0(34895位) |
6233位 | 森ビル株式会社 | 2 | - | 0 | 0(34895位) |
6233位 | エルリンククリンガー アクチェンゲゼルシャフト | 2 | - | 0 | 2(7796位) |
6233位 | WHA株式会社 | 2 | - | 0 | 1(12936位) |
6233位 | 初田拡撒機株式会社 | 2 | 9669位 | 1 | 3(5661位) |
6233位 | 有限会社空色技研 | 2 | - | 0 | 1(12936位) |
6233位 | 風越建設株式会社 | 2 | - | 0 | 2(7796位) |
6233位 | シノビス ライフ テクノロジーズ,インコーポレイティド | 2 | - | 0 | 0(34895位) |
6233位 | 株式会社シナネンゼオミック | 2 | 3844位 | 4 | 0(34895位) |
6233位 | クラリス環境株式会社 | 2 | 9669位 | 1 | 0(34895位) |
6233位 | 株式会社新日南 | 2 | 6156位 | 2 | 2(7796位) |
6233位 | 株式会社応用ナノ粒子研究所 | 2 | - | 0 | 0(34895位) |
6233位 | 株式会社 アクティブ | 2 | - | 0 | 1(12936位) |
6233位 | 出光ライオンコンポジット株式会社 | 2 | 6156位 | 2 | 4(4525位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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