- 2025年8月13日 更新 -
2013年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2013年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月13日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2013年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12936位 | オリンプ ラボラトリーズ スプウカ・ス・オルガニザツィーノン・オトゥポビエジャルノシチョン オリンプ ラボラトリーズ スプウカ・ス・オルガニザツィーノン・オトゥポビエジャルノシチョン | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 坂本 沙也香 坂本 沙也香 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 澤 謙三 澤 謙三 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 金石衛材株式会社 金石衛材株式会社 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | バラ、ジャグモーハン バラ、ジャグモーハン | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 株式会社星光工業 株式会社星光工業 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 荒井 玲子 荒井 玲子 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | エヌシー インフォメーション テクノロジー カンパニー リミテッド エヌシー インフォメーション テクノロジー カンパニー リミテッド | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 岩永工業株式会社 岩永工業株式会社 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 黄善▲ティアオ▼ 黄善▲ティアオ▼ | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 和久田 茂樹 和久田 茂樹 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 仲田 稔 仲田 稔 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 野口 裕子 野口 裕子 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | セルポレ セルポレ | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | ファイクス,レイモンド ファイクス,レイモンド | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | フラビー オービタル システムズ,インコーポレイテッド フラビー オービタル システムズ,インコーポレイテッド | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 古川 美子 古川 美子 | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 農事組合法人ホワイトベリー 農事組合法人ホワイトベリー | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | ウォンキソバイオ・カンパニー・リミテッド ウォンキソバイオ・カンパニー・リミテッド | 1 | - | 0(25899位) | |
12936位 | 小林 英之 小林 英之 | 1 | - | 0(25899位) |
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2013年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月13日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2013年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
3352位 | シロナ・デンタル・システムズ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 5 | ![]() |
3 | 4(4525位) |
3352位 | 学校法人東京女子医科大学 | 5 | ![]() |
5 | 10(2284位) |
3352位 | 東京濾器株式会社 | 5 | ![]() |
7 | 3(5661位) |
3352位 | エッペンドルフ アクチエンゲゼルシャフト | 5 | ![]() |
2 | 12(2030位) |
3352位 | マパル ファブリック フュール プラツィジョンズベルクゼウグ ドクトル.クレス カーゲー | 5 | ![]() |
3 | 1(12936位) |
3352位 | 西研グラフィックス株式会社 | 5 | ![]() |
3 | 0(34895位) |
3352位 | 株式会社フレッシュ | 5 | ![]() |
1 | 1(12936位) |
3352位 | アルコア インコーポレイテッド | 5 | ![]() |
4 | 8(2668位) |
3352位 | 中電プラント株式会社 | 5 | ![]() |
2 | 0(34895位) |
3352位 | 株式会社電業社機械製作所 | 5 | ![]() |
2 | 5(3781位) |
3352位 | 株式会社エム・ソフト | 5 | ![]() |
1 | 0(34895位) |
3352位 | 株式会社TRINC | 5 | ![]() |
2 | 1(12936位) |
3352位 | 行政院原子能委員会核能研究所 | 5 | ![]() |
11 | 1(12936位) |
3352位 | 朝日レントゲン工業株式会社 | 5 | ![]() |
4 | 8(2668位) |
3352位 | ラボラトワール フルニエ エス・アー | 5 | ![]() |
5 | 3(5661位) |
3352位 | カゴメ株式会社 | 5 | ![]() |
7 | 0(34895位) |
3352位 | アレヴァ・エンセ | 5 | ![]() |
4 | 0(34895位) |
3352位 | 岡谷電機産業株式会社 | 5 | ![]() |
4 | 2(7796位) |
3352位 | シンボル テクノロジーズ, インコーポレイテッド | 5 | ![]() |
9 | 6(3287位) |
3352位 | 愛知株式会社 | 5 | ![]() |
2 | 2(7796位) |
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【大阪会場】 設計図面に隠れている発明を見出す発明発掘(図面発掘)~「知財ポートフォリオ・マネジメント」を高めるために必須のテクニックを ケーススタディを通じて解説 ~
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