- 2024年12月20日 更新 -
2014年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2014年 出願公開分 - データ更新日:2024年12月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2014年 特許取得件数 |
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11848位 | モザイク クリスタルズ リミテッド モザイク クリスタルズ リミテッド | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | ファイブリオ・テクノロジー・コーポレーション ファイブリオ・テクノロジー・コーポレーション | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | ベトンフォルム エス.アール.エル. ベトンフォルム エス.アール.エル. | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 株式会社水郷電設 株式会社水郷電設 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 株式会社チスイ 株式会社チスイ | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 小田鐵網株式会社 小田鐵網株式会社 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | ウジー エメア ウジー エメア | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | ジョン、アール.ラムン ジョン、アール.ラムン | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 株式会社九飛勢螺 株式会社九飛勢螺 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | ニール,ピーター・メルビン ニール,ピーター・メルビン | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | チェッカート,ニコラ チェッカート,ニコラ | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | テンペル スティール カンパニー テンペル スティール カンパニー | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | ザハイドロジェンコーポレーション株式会社 ザハイドロジェンコーポレーション株式会社 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 余 運▲ショウ▼ 余 運▲ショウ▼ | 1 | - | 1(10386位) | |
11848位 | 古井田 利男 古井田 利男 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | エグザラス コーポレイション エグザラス コーポレイション | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | コウ、ユン−ウン コウ、ユン−ウン | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 川添 武徳 川添 武徳 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | キム,リ ナム キム,リ ナム | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | スィーッセンクルップ・メタルージカ・カンポ・リンポ・エルティーディーエー. スィーッセンクルップ・メタルージカ・カンポ・リンポ・エルティーディーエー. | 1 | - | 0(27207位) |
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2014年 特許登録分 - データ更新日:2024年12月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2014年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
10386位 | リヒト−テヒニーク フェアトリーブス ゲーエムベーハー ハーゲンバッハ ウント グリル | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | 株式会社エス・ケイ・ケイ | 1 | - | 0 | 1(11848位) |
10386位 | セキュアー コンテント ストレージ アソシエイション, リミテッド ライアビリティ カンパニー | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | ヤン・シャオフイ | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | リンチ,ジョン | 1 | 9789位 | 1 | 0(31873位) |
10386位 | エスピーティーエス テクノロジーズ イーティー リミティド | 1 | 4717位 | 3 | 1(11848位) |
10386位 | タップ デベロップメント リミテッド ライアビリティ カンパニー | 1 | 6233位 | 2 | 0(31873位) |
10386位 | イノレーン リミティド ライアビリティ カンパニー | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | Delta−Fly Pharma株式会社 | 1 | - | 0 | 1(11848位) |
10386位 | テルモ ビーシーティー バイオテクノロジーズ,エルエルシー | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | 株式会社日本表面処理研究所 | 1 | 9789位 | 1 | 0(31873位) |
10386位 | ナンジン シーキュー レーザー テクノロジー リミテッド | 1 | 9789位 | 1 | 0(31873位) |
10386位 | 植野 弘志 | 1 | 9789位 | 1 | 6(3042位) |
10386位 | 辻井 吉次 | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | 金高 良樹 | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | 株式会社元気 | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | チソット・エス アー | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | 山本 勝美 | 1 | 9789位 | 1 | 0(31873位) |
10386位 | シベル エセ.ア. | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | ピルリ,アスラン アリ | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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