- 2025年8月22日 更新 -
2014年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2014年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2014年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11848位 | クラベクス,エドワーズ クラベクス,エドワーズ | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | ユニバーシティ・オブ・ウォルヴァーハンプトン ユニバーシティ・オブ・ウォルヴァーハンプトン | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | トーマス ジェイ.ベラ トーマス ジェイ.ベラ | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 永井 香織 永井 香織 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 株式会社エース洋行 株式会社エース洋行 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 永井 みち子 永井 みち子 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 株式会社シントー化学 株式会社シントー化学 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 川▲崎▼ 智久 川▲崎▼ 智久 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | ドゥ, ミア ドゥ, ミア | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 林 宏哉 林 宏哉 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 小沢 國夫 小沢 國夫 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 安井 正次 安井 正次 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 株式会社 ローラン 株式会社 ローラン | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 信濃 義幸 信濃 義幸 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | パム ティ キム ローン パム ティ キム ローン | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | グスト・プロダクツ・アンド・サービスイズ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング グスト・プロダクツ・アンド・サービスイズ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | ナンガラ ピーティーワイ リミテッド ナンガラ ピーティーワイ リミテッド | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | ファイバーテックス パーソナル ケア エー/エス ファイバーテックス パーソナル ケア エー/エス | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 曽 卉菱 曽 卉菱 | 1 | - | 0(27207位) | |
11848位 | 藤岡 憲子 藤岡 憲子 | 1 | - | 0(27207位) |
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2014年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2014年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
10386位 | 桑山 忠 | 1 | - | 1(11848位) | |
10386位 | エスイーリペア株式会社 | 1 | - | 0(31873位) | |
10386位 | 橋詰 幸昇 | 1 | - | 1(11848位) | |
10386位 | 藤井 庸之 | 1 | - | 1(11848位) | |
10386位 | ゾディアック イドロリク | 1 | - | 0(31873位) | |
10386位 | ソラルス ソルクラフト イー ロスラーゲン アーベー | 1 | - | 0(31873位) | |
10386位 | キョンドン ワン コーポレーション | 1 | - | 0(31873位) | |
10386位 | 前田 博美 | 1 | - | 0(31873位) | |
10386位 | エルスペック・エンジニアリング・リミテッド | 1 | - | 0(31873位) | |
10386位 | 小山田 松男 | 1 | - | 0(31873位) | |
10386位 | ベルツ コーポレイション リミテッド | 1 | - | 0(31873位) | |
10386位 | 太田 寿英 | 1 | - | 1(11848位) | |
10386位 | 小林 年子 | 1 | - | 0(31873位) | |
10386位 | 吉若 秀悟 | 1 | - | 1(11848位) | |
10386位 | アイピー エルエルシー | 1 | - | 1(11848位) | |
10386位 | ウィン ヒン マニュファクチュアリング カンパニー リミテッド | 1 | - | 1(11848位) | |
10386位 | ワンホア ケミカル グループ カンパニー リミテッド | 1 | - | 3(5218位) | |
10386位 | 共進精機株式会社 | 1 | - | 1(11848位) | |
10386位 | ハン,ジェスン | 1 | - | 1(11848位) | |
10386位 | リ サンファン | 1 | - | 1(11848位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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