- 2025年8月8日 更新 -
2014年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2014年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2014年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11848位 | 森敬株式会社 森敬株式会社 | 1 | - | 0 | 1(10386位) |
11848位 | 株式会社エイムテック 株式会社エイムテック | 1 | ![]() |
4 | 0(27207位) |
11848位 | 株式会社オーバル 株式会社オーバル | 1 | ![]() |
2 | 4(4015位) |
11848位 | 川西 勝三 川西 勝三 | 1 | ![]() |
4 | 6(3032位) |
11848位 | マスクレス・リソグラフィー・インコーポレーテッド マスクレス・リソグラフィー・インコーポレーテッド | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | フジイオプチカル株式会社 フジイオプチカル株式会社 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | パナソニック フォト・ライティング 株式会社 パナソニック フォト・ライティング 株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 0(27207位) |
11848位 | 株式会社アドイン研究所 株式会社アドイン研究所 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | トレンドマイクロ株式会社 トレンドマイクロ株式会社 | 1 | - | 0 | 1(10386位) |
11848位 | マッシブリー パラレル テクノロジーズ, インコーポレイテッド マッシブリー パラレル テクノロジーズ, インコーポレイテッド | 1 | ![]() |
4 | 1(10386位) |
11848位 | 寺崎電気産業株式会社 寺崎電気産業株式会社 | 1 | - | 0 | 2(6584位) |
11848位 | テキサコ ディベラップメント コーポレイション テキサコ ディベラップメント コーポレイション | 1 | ![]() |
2 | 1(10386位) |
11848位 | 有限会社クラ技術研究所 有限会社クラ技術研究所 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 株式会社ノングリッド 株式会社ノングリッド | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | アジェンシス,インコーポレイテッド アジェンシス,インコーポレイテッド | 1 | ![]() |
3 | 3(4898位) |
11848位 | デラヴァル ホルディング アーベー デラヴァル ホルディング アーベー | 1 | ![]() |
4 | 7(2733位) |
11848位 | 牧野 賢次郎 牧野 賢次郎 | 1 | - | 0 | 2(6584位) |
11848位 | エヌディアール株式会社 エヌディアール株式会社 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 三菱化学フーズ株式会社 三菱化学フーズ株式会社 | 1 | ![]() |
7 | 4(4015位) |
11848位 | 株式会社パンジー 株式会社パンジー | 1 | ![]() |
1 | 1(10386位) |
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2014年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2014年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
879位 | エス・エム・エス・ジーマーク・アクチエンゲゼルシャフト | 33 | ![]() |
42 | 9(2283位) |
879位 | コベルコクレーン株式会社 | 33 | ![]() |
22 | 22(1205位) |
879位 | キャタピラー エス エー アール エル | 33 | ![]() |
40 | 16(1505位) |
879位 | NECライティング株式会社 | 33 | ![]() |
37 | 25(1081位) |
879位 | エフ ホフマン−ラ ロッシュ アクチェン ゲゼルシャフト | 33 | ![]() |
37 | 34(850位) |
879位 | ヤフー! インコーポレイテッド | 33 | ![]() |
37 | 19(1332位) |
879位 | 古河電池株式会社 | 33 | ![]() |
48 | 19(1332位) |
879位 | 株式会社ジェイ・エム・エス | 33 | ![]() |
67 | 58(557位) |
879位 | 田辺三菱製薬株式会社 | 33 | ![]() |
37 | 20(1287位) |
879位 | 大日本塗料株式会社 | 33 | ![]() |
27 | 23(1164位) |
879位 | 共同印刷株式会社 | 33 | ![]() |
42 | 21(1239位) |
879位 | 豊和工業株式会社 | 33 | ![]() |
33 | 8(2496位) |
879位 | 日本ケミコン株式会社 | 33 | ![]() |
47 | 56(578位) |
879位 | 日本光電工業株式会社 | 33 | ![]() |
28 | 55(583位) |
879位 | 学校法人北里研究所 | 33 | ![]() |
17 | 22(1205位) |
879位 | FDK株式会社 | 33 | ![]() |
42 | 55(583位) |
879位 | 日清オイリオグループ株式会社 | 33 | ![]() |
42 | 55(583位) |
879位 | 三機工業株式会社 | 33 | ![]() |
41 | 21(1239位) |
879位 | レニショウ パブリック リミテッド カンパニー | 33 | ![]() |
24 | 13(1765位) |
879位 | 国立大学法人鳥取大学 | 33 | ![]() |
28 | 26(1043位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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【大阪会場】 設計図面に隠れている発明を見出す発明発掘(図面発掘)~「知財ポートフォリオ・マネジメント」を高めるために必須のテクニックを ケーススタディを通じて解説 ~
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