- 2025年1月8日 更新 -
2014年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2014年 出願公開分 - データ更新日:2025年1月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2014年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11848位 | 豊玉香料株式会社 豊玉香料株式会社 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 中山式産業株式会社 中山式産業株式会社 | 1 | 7796位 | 2 | 1(10386位) |
11848位 | 株式会社 ユイ工業 株式会社 ユイ工業 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 福居 和幸 福居 和幸 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 株式会社武田機械 株式会社武田機械 | 1 | - | 0 | 1(10386位) |
11848位 | 川田鉄工株式会社 川田鉄工株式会社 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | アフィメート テラポイティクス アーゲー アフィメート テラポイティクス アーゲー | 1 | - | 0 | 2(6584位) |
11848位 | セレスティス リミテッド セレスティス リミテッド | 1 | 7796位 | 2 | 0(27207位) |
11848位 | 山大機電株式会社 山大機電株式会社 | 1 | 7796位 | 2 | 3(4898位) |
11848位 | 株式会社アメータ 株式会社アメータ | 1 | - | 0 | 1(10386位) |
11848位 | 株式会社ニチゾウテック 株式会社ニチゾウテック | 1 | 5661位 | 3 | 0(27207位) |
11848位 | 林 和弘 林 和弘 | 1 | - | 0 | 4(4015位) |
11848位 | 株式会社八木 株式会社八木 | 1 | 12936位 | 1 | 0(27207位) |
11848位 | 英弘精機株式会社 英弘精機株式会社 | 1 | 12936位 | 1 | 0(27207位) |
11848位 | 株式会社オナガメガネ 株式会社オナガメガネ | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 株式会社グラフィック 株式会社グラフィック | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 岡部 大陸 岡部 大陸 | 1 | 7796位 | 2 | 0(27207位) |
11848位 | AOSテクノロジーズ株式会社 AOSテクノロジーズ株式会社 | 1 | 5661位 | 3 | 0(27207位) |
11848位 | 有限会社インフォメーション・ネット 有限会社インフォメーション・ネット | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 株式会社新陽社 株式会社新陽社 | 1 | 12936位 | 1 | 1(10386位) |
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2014年 特許登録分 - データ更新日:2025年1月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2014年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
10386位 | リヒト−テヒニーク フェアトリーブス ゲーエムベーハー ハーゲンバッハ ウント グリル | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | 株式会社エス・ケイ・ケイ | 1 | - | 0 | 1(11848位) |
10386位 | セキュアー コンテント ストレージ アソシエイション, リミテッド ライアビリティ カンパニー | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | ヤン・シャオフイ | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | リンチ,ジョン | 1 | 9789位 | 1 | 0(31873位) |
10386位 | エスピーティーエス テクノロジーズ イーティー リミティド | 1 | 4717位 | 3 | 1(11848位) |
10386位 | タップ デベロップメント リミテッド ライアビリティ カンパニー | 1 | 6233位 | 2 | 0(31873位) |
10386位 | イノレーン リミティド ライアビリティ カンパニー | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | Delta−Fly Pharma株式会社 | 1 | - | 0 | 1(11848位) |
10386位 | テルモ ビーシーティー バイオテクノロジーズ,エルエルシー | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | 株式会社日本表面処理研究所 | 1 | 9789位 | 1 | 0(31873位) |
10386位 | ナンジン シーキュー レーザー テクノロジー リミテッド | 1 | 9789位 | 1 | 0(31873位) |
10386位 | 植野 弘志 | 1 | 9789位 | 1 | 6(3042位) |
10386位 | 辻井 吉次 | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | 金高 良樹 | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | 株式会社元気 | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | チソット・エス アー | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | 山本 勝美 | 1 | 9789位 | 1 | 0(31873位) |
10386位 | シベル エセ.ア. | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
10386位 | ピルリ,アスラン アリ | 1 | - | 0 | 0(31873位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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1月14日(火) - 東京 港区
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1月15日(水) - 東京 千代田区
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1月16日(木) - 石川 金沢市
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1月17日(金) - 東京 渋谷区
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1月14日(火) - 東京 港区
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