- 2025年8月22日 更新 -
2014年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2014年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2014年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11848位 | 朝日ハウジング株式会社 朝日ハウジング株式会社 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 誠南工業株式会社 誠南工業株式会社 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | エイコーン テクノロジーズ インク エイコーン テクノロジーズ インク | 1 | - | 0 | 1(10386位) |
11848位 | ▲高▼橋 富雄 ▲高▼橋 富雄 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 新世代加工システム株式会社 新世代加工システム株式会社 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 株式会社ワイワイワイネット 株式会社ワイワイワイネット | 1 | - | 0 | 2(6584位) |
11848位 | 東洋建物振興株式会社 東洋建物振興株式会社 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | エミック株式会社 エミック株式会社 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 山田 泰子 山田 泰子 | 1 | ![]() |
3 | 0(27207位) |
11848位 | 株式会社光陽社 株式会社光陽社 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 松本 清 松本 清 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 住江 久寿 住江 久寿 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 松下 誠二 松下 誠二 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 久保村 健二 久保村 健二 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | ミールソリューションズ株式会社 ミールソリューションズ株式会社 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 沼田 美樹男 沼田 美樹男 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | 大野 洋佑 大野 洋佑 | 1 | - | 0 | 0(27207位) |
11848位 | ハイデルベルク ファルマ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ハイデルベルク ファルマ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 1 | ![]() |
1 | 0(27207位) |
11848位 | 共和成産株式会社 共和成産株式会社 | 1 | - | 0 | 2(6584位) |
11848位 | 株式会社ファム 株式会社ファム | 1 | - | 0 | 1(10386位) |
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2014年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2014年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
6584位 | カオ グループ、インク. | 2 | - | 0 | 1(11848位) |
6584位 | 株式会社IEC | 2 | ![]() |
1 | 0(31873位) |
6584位 | 株式会社キョクトー | 2 | ![]() |
3 | 2(7139位) |
6584位 | ピコデオン・リミテッド・オサケユキテュア | 2 | ![]() |
1 | 1(11848位) |
6584位 | オプテイカル・エア・データ・システムズ,エルエルシー | 2 | - | 0 | 0(31873位) |
6584位 | サイデック株式会社 | 2 | ![]() |
5 | 0(31873位) |
6584位 | パシフィックサイエンス株式会社 | 2 | - | 0 | 1(11848位) |
6584位 | 有限会社K・Mプランニング | 2 | ![]() |
1 | 3(5218位) |
6584位 | アトランティック・イナーシャル・システムズ・リミテッド | 2 | ![]() |
1 | 4(4165位) |
6584位 | 株式会社ぐるなび | 2 | ![]() |
5 | 11(1993位) |
6584位 | オートモーティブエナジーサプライ株式会社 | 2 | - | 0 | 10(2128位) |
6584位 | 日本光機工業株式会社 | 2 | ![]() |
1 | 0(31873位) |
6584位 | センブラント リミテッド | 2 | - | 0 | 1(11848位) |
6584位 | オンヨネ株式会社 | 2 | ![]() |
1 | 0(31873位) |
6584位 | アラントス・フアーマシユーテイカルズ・ホールデイング・インコーポレイテツド | 2 | - | 0 | 1(11848位) |
6584位 | ファーナム・カンパニーズ・インコーポレーテッド | 2 | ![]() |
1 | 1(11848位) |
6584位 | ゲティンゲ ステラリゼイション アクチボラゲット | 2 | - | 0 | 0(31873位) |
6584位 | クリーンケミカル株式会社 | 2 | ![]() |
2 | 1(11848位) |
6584位 | シロー インダストリーズ インコーポレイテッド | 2 | ![]() |
1 | 1(11848位) |
6584位 | マーベル インターナショナル リミテッド | 2 | ![]() |
5 | 1(11848位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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