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2015年 特許ランキング

- 2024年11月25日 更新 -

2015年に発行された公報（公開特許公報，特許公報）に基づくランキングです。

特許出願件数ランキング

特許取得件数ランキング

2015年 出願公開分   - データ更新日：2024年11月25日 -

順位出願人件数前年順位前年件数2015年 特許取得件数
741位 学校法人立命館 41 特許件数下降 1043位 26 19（1060位）
741位 キヤノンアネルバ株式会社 41 特許件数下降 870位 33 55（464位）
741位 マーレ　インターナショナル　ゲゼルシャフト　ミット　ベシュレンクテル　ハフツング 41 - 19（1060位）
741位 東レ・ファインケミカル株式会社 41 特許件数下降 1043位 26 12（1502位）
741位 田中貴金属工業株式会社 41 特許件数下降 890位 32 33（672位）
741位 公立大学法人首都大学東京 41 特許件数下降 961位 29 20（1019位）
741位 上海和輝光電有限公司 41 特許件数下降 2742位 7 4（3293位）
741位 日本カーバイド工業株式会社 41 特許件数下降 766位 39 13（1417位）
741位 澁谷工業株式会社 41 特許件数上昇 612位 52 22（942位）
741位 ケイミュー株式会社 41 特許件数上昇 737位 41 24（869位）
741位 株式会社ハイレックスコーポレーション 41 特許件数下降 819位 36 19（1060位）
741位 株式会社大真空 41 特許件数下降 796位 37 30（741位）
753位 雪印メグミルク株式会社 40 特許件数下降 782位 38 33（672位）
753位 コクヨファニチャー株式会社 40 特許件数上昇 565位 57 3（3984位）
753位 レンゴー株式会社 40 特許件数下降 890位 32 25（846位）
753位 大森機械工業株式会社 40 特許件数下降 986位 28 32（687位）
753位 ワッカー　ケミー　アクチエンゲゼルシャフト 40 - 37（612位）
753位 アイカ工業株式会社 40 特許件数上昇 667位 47 25（846位）
753位 三井金属アクト株式会社 40 特許件数下降 832位 35 18（1115位）
753位 第一三共株式会社 40 特許件数下降 890位 32 43（549位）
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特許出願件数ランキング

特許取得件数ランキング

2015年 特許登録分   - データ更新日：2024年11月25日 -

順位出願人件数前年順位前年件数2015年 出願公開件数
8612位 キングス　カレッジ　ロンドン 1 - 0（32490位）
8612位 オムニアクティブ　ヘルス　テクノロジーズ　リミテッド 1 - 0（32490位）
8612位 ユナイティッド　アラブ　エミレーツ　ユニヴァーシティ 1 - 0（32490位）
8612位 システム　バイオロジー　アーゲー 1 - 0（32490位）
8612位 マイクロニック　アーベー 1 - 0（32490位）
8612位 クラルス　セラピューティクス，インコーポレーテッド 1 - 0（32490位）
8612位 株式会社ヒカリ 1 - 0（32490位）
8612位 ベーヴェ・システック・ゲーエムベーハー 1 - 0（32490位）
8612位 ナチュレクス 1 - 0（32490位）
8612位 デンマン　インターナショナル　リミテッド 1 - 0（32490位）
8612位 シリコン・ラボラトリーズ・インコーポレイテッド 1 - 0（32490位）
8612位 グラニート　ステート　プロダクト　デベロップメント　リミテッド　ライアビリティ　カンパニー 1 - 0（32490位）
8612位 橋田技研工業株式会社 1 - 1（11806位）
8612位 有限会社岡村産業 1 - 1（11806位）
8612位 田崎　マサ子 1 - 0（32490位）
8612位 株式会社リアリティ・デンタル・ラボラトリー 1 - 0（32490位）
8612位 山田　順子 1 - 0（32490位）
8612位 キム，ウン−クァン 1 - 0（32490位）
8612位 株式会社吉田鉄工所 1 - 0（32490位）
8612位 ソノコ・デヴェロップメント，インコーポレイテッド 1 - 0（32490位）
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。

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11月25日(月) - 岐阜 各務原市

オープンイノベーションマッチング in 岐阜

11月26日(火) - 東京 港区

企業における侵害予防調査

11月27日(水) - 東京 港区

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特許拒絶理由通知対応の基本（化学）

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中国の知的財産政策の現状とその影響

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新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～

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