- 2024年9月20日 更新 -
2016年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2016年 出願公開分 - データ更新日:2024年9月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2016年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12189位 | 株式会社FFC | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 酒井 夢加 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 崎山 方央 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 平島 淳子 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 矢口 貞夫 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 山谷 直樹 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 小林 弘和 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 新垣 知美 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 因幡 有紀 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 松岡 文吉 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | ▲桑▼原 照子 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 柴崎 威暢 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 丸山 慶子 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 小林 千代子 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 荒川 和正 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 津野 柳吉 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 小田 健太郎 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 何建興 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | ヴィアン・ヴィアン ユニオン有限会社 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 許敏修 | 1 | - | 0(24808位) |
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2016年 特許登録分 - データ更新日:2024年9月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2016年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
5777位 | 大同マシナリー株式会社 | 2 | - | 0 | 2(7297位) |
5777位 | ADZツール株式会社 | 2 | - | 0 | 1(12189位) |
5777位 | 東芝環境ソリューション株式会社 | 2 | - | 0 | 1(12189位) |
5777位 | 片倉チッカリン株式会社 | 2 | 8612位 | 1 | 3(5242位) |
5777位 | 日本乳化剤株式会社 | 2 | 3293位 | 4 | 11(1978位) |
5777位 | 鹿島道路株式会社 | 2 | 8612位 | 1 | 2(7297位) |
5777位 | 日本サミコン株式会社 | 2 | - | 0 | 0(33513位) |
5777位 | 株式会社東京マルイ | 2 | 5375位 | 2 | 0(33513位) |
5777位 | 独立行政法人国立環境研究所 | 2 | 8612位 | 1 | 3(5242位) |
5777位 | 株式会社丸三金属 | 2 | 8612位 | 1 | 0(33513位) |
5777位 | NDS株式会社 | 2 | - | 0 | 0(33513位) |
5777位 | エフアイエス株式会社 | 2 | 8612位 | 1 | 0(33513位) |
5777位 | 株式会社ナノエッグ | 2 | 8612位 | 1 | 1(12189位) |
5777位 | 株式会社江東彫刻 | 2 | - | 0 | 2(7297位) |
5777位 | 富士シリシア化学株式会社 | 2 | 3293位 | 4 | 2(7297位) |
5777位 | 株式会社カズマ | 2 | 8612位 | 1 | 2(7297位) |
5777位 | エイソンテクノロジー株式会社 | 2 | - | 0 | 0(33513位) |
5777位 | 進藤 達也 | 2 | - | 0 | 0(33513位) |
5777位 | ビッソーリ・ダヴィデ | 2 | - | 0 | 0(33513位) |
5777位 | 株式会社ラパンクリエイト | 2 | 8612位 | 1 | 0(33513位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
9月25日(水) - 東京 港
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