- 2025年6月3日 更新 -
2017年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2017年 出願公開分 - データ更新日:2025年6月3日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2017年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12799位 | アデッソ アドバーンスト マテリアルズ ウーシー カンパニー リミテッド. | 1 | ![]() |
2 | 0(24017位) |
12799位 | イーシー パワー,エルエルシー | 1 | ![]() |
3 | 0(24017位) |
12799位 | アッポトロニック チャイナ コーポレイション | 1 | ![]() |
1 | 1(8798位) |
12799位 | 株式会社KAHUKA21 | 1 | ![]() |
2 | 0(24017位) |
12799位 | エス・ピー・アイ・イグティブ社株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 1(8798位) |
12799位 | 森 幸信 | 1 | ![]() |
1 | 0(24017位) |
12799位 | 株式会社セオリー | 1 | ![]() |
2 | 0(24017位) |
12799位 | アド・ロールス株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 0(24017位) |
12799位 | 有限会社内山製陶所 | 1 | ![]() |
1 | 0(24017位) |
12799位 | エスディー バイオテクノロジーズ カンパニー リミテッド | 1 | ![]() |
1 | 0(24017位) |
12799位 | バイオミメティック セラピューティクス,リミテッド ライアビリティ カンパニー | 1 | ![]() |
1 | 3(4057位) |
12799位 | 株式会社スペーサー工業 | 1 | ![]() |
1 | 0(24017位) |
12799位 | コスモテック株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 0(24017位) |
12799位 | 株式会社日本コムダック | 1 | ![]() |
1 | 1(8798位) |
12799位 | 丈井 敏孝 | 1 | ![]() |
1 | 0(24017位) |
12799位 | 兼山 静和 | 1 | ![]() |
1 | 0(24017位) |
12799位 | アイアンドティテック株式会社 | 1 | ![]() |
4 | 0(24017位) |
12799位 | カロン カーディオ−テクノロジー リミテッド | 1 | ![]() |
1 | 0(24017位) |
12799位 | ラプター ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド | 1 | ![]() |
3 | 0(24017位) |
12799位 | グアンツォウ シャンスエ ファーマシューティカル カンパニー リミテッド | 1 | ![]() |
1 | 0(24017位) |
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2017年 特許登録分 - データ更新日:2025年6月3日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2017年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
4057位 | ネットバイオ・インコーポレーテッド | 3 | - | 0 | 3(5643位) |
4057位 | 住友ナコ マテリアル ハンドリング株式会社 | 3 | ![]() |
8 | 4(4465位) |
4057位 | ピールブルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 3 | ![]() |
7 | 6(3286位) |
4057位 | トクセン工業株式会社 | 3 | ![]() |
4 | 13(1882位) |
4057位 | 湖北工業株式会社 | 3 | ![]() |
3 | 2(7815位) |
4057位 | ディー・ツー・エス・インコーポレイテッド | 3 | ![]() |
3 | 1(12799位) |
4057位 | 株式会社インテック | 3 | ![]() |
6 | 6(3286位) |
4057位 | ポカード・ディアグノスティクス・リミテッド | 3 | ![]() |
1 | 5(3759位) |
4057位 | ジェイオーコスメティックス株式会社 | 3 | - | 0 | 3(5643位) |
4057位 | バイエル・クロップサイエンス・エヌ・ヴェー | 3 | ![]() |
2 | 0(34787位) |
4057位 | オリンパス ビンテル ウント イーベーエー ゲーエムベーハー | 3 | ![]() |
10 | 11(2121位) |
4057位 | アディッソ・フランス・エス.エー.エス. | 3 | ![]() |
3 | 2(7815位) |
4057位 | レンセレイアー ポリテクニック インスティテュート | 3 | ![]() |
2 | 1(12799位) |
4057位 | エ・ティ・チ・エッセ・エッレ・エッレ | 3 | ![]() |
4 | 2(7815位) |
4057位 | ユニバーシティー オブ ロチェスター | 3 | ![]() |
3 | 7(2921位) |
4057位 | ピコサン オーワイ | 3 | ![]() |
5 | 4(4465位) |
4057位 | ロッサト、ルカ | 3 | - | 0 | 0(34787位) |
4057位 | トリュフォン リミテッド | 3 | - | 0 | 0(34787位) |
4057位 | 泉 寛治 | 3 | ![]() |
1 | 3(5643位) |
4057位 | 株式会社西陣 | 3 | ![]() |
3 | 1(12799位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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